| 中文摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 研究背景 | 第13-17页 |
| 1.1.1 市场对高密度存储器需求的调研与分析 | 第13-14页 |
| 1.1.2 Flash的简介与面临的挑战 | 第14-17页 |
| 1.2 激光退火技术现状 | 第17-22页 |
| 1.2.1 激光退火的简介 | 第17-20页 |
| 1.2.2 短脉冲激光退火技术 | 第20页 |
| 1.2.3 飞秒激光技术及应用 | 第20-22页 |
| 1.3 影响激光退火质量的因素 | 第22-23页 |
| 1.3.1 激光光束类型的影响 | 第22页 |
| 1.3.2 激光能量密度的影响 | 第22-23页 |
| 1.3.3 激光脉冲宽度的影响 | 第23页 |
| 1.4 论文的主要工作及内容安排 | 第23-25页 |
| 第二章 理论知识 | 第25-32页 |
| 2.1 半导体中的光吸收理论 | 第25-28页 |
| 2.1.1 半导体对激光的吸收原理 | 第25-26页 |
| 2.1.2 半导体中的吸收深度 | 第26-28页 |
| 2.2 激光与半导体材料相互作用的热传导理论 | 第28-30页 |
| 2.2.1 传热的基本理论 | 第28-29页 |
| 2.2.2 热传导方程 | 第29页 |
| 2.2.3 热传导的定解条件 | 第29-30页 |
| 2.3 热力学仿真中的数学物理方法 | 第30-32页 |
| 2.3.1 有限元法 | 第30页 |
| 2.3.2 有限差分法 | 第30-32页 |
| 第三章 纳秒激光退火的热力学仿真 | 第32-45页 |
| 3.1 3D垂直沟道结构激光退火的建模仿真 | 第32-37页 |
| 3.1.1 有限元法与仿真软件 | 第32-33页 |
| 3.1.2 3D垂直沟道结构模型的建模仿真过程 | 第33-37页 |
| 3.2 仿真结果与分析 | 第37-43页 |
| 3.2.1 3D垂直沟道结构的温度场分布 | 第37-38页 |
| 3.2.2 激光参数对3D垂直沟道结构温度场分布与的影响 | 第38-40页 |
| 3.2.3 3D垂直沟道结构激光退火工艺的参考 | 第40-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 飞秒激光与非晶硅作用的理论与实验研究 | 第45-59页 |
| 4.1 飞秒激光与材料相互作用的物理机制 | 第45-47页 |
| 4.2 飞秒激光非热过程的理论模型 | 第47-52页 |
| 4.2.1 双温模型及其求解 | 第47-50页 |
| 4.2.2 计算结果与分析 | 第50-52页 |
| 4.3 飞秒激光退火的实验研究 | 第52-58页 |
| 4.3.1 实验装置 | 第52-53页 |
| 4.3.2 飞秒激光退火前后非晶硅薄膜表面形貌的表征 | 第53-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 总结与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文和参加科研情况 | 第67-68页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第68页 |