| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 引言 | 第9-11页 |
| 1 ITO薄膜材料概述 | 第11-20页 |
| ·ITO薄膜的晶体结构和能带结构 | 第11-13页 |
| ·ITO薄膜晶体结构 | 第11-12页 |
| ·ITO薄膜的能带结构 | 第12-13页 |
| ·ITO薄膜的光学原理和电学原理 | 第13-15页 |
| ·ITO薄膜的电学原理 | 第13-14页 |
| ·ITO薄膜的光学原理 | 第14-15页 |
| ·ITO薄膜的应用 | 第15-16页 |
| ·平面显示应用 | 第15页 |
| ·电致变色窗 | 第15页 |
| ·太阳能电池 | 第15-16页 |
| ·微波屏蔽和防护镜 | 第16页 |
| ·交通工具风挡 | 第16页 |
| ·气敏元件 | 第16页 |
| ·ITO薄膜的制备方法 | 第16-20页 |
| ·磁控溅射法(Magnetron sputtering) | 第16-17页 |
| ·真空蒸发法(vacuum evaporation) | 第17页 |
| ·喷雾热分解(Spray pyrolysis) | 第17页 |
| ·化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition) | 第17页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition) | 第17-18页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel Method) | 第18-20页 |
| 2 溶胶-凝胶法制备ITO薄膜的研究进展 | 第20-34页 |
| ·退火对ITO薄膜性质的影响的研究进展 | 第20-30页 |
| ·退火对ITO薄膜中Sn浓度的影响 | 第20-21页 |
| ·退火对ITO薄膜质量、表面形貌的影响 | 第21-25页 |
| ·退火对ITO薄膜导电性质的影响 | 第25-29页 |
| ·退火对ITO薄膜透射性质的影响 | 第29-30页 |
| ·制备ITO溶胶的方法 | 第30-34页 |
| 3 本文的实验过程及表征方法 | 第34-39页 |
| ·本文的实验过程 | 第34-35页 |
| ·本文实验的注意事项 | 第35-36页 |
| ·本文使用的表征方法 | 第36-39页 |
| ·X射线衍射表征晶体结构(XRD) | 第36-37页 |
| ·扫描电子显微镜表征表面形态(SEM) | 第37页 |
| ·四探针法表征电阻率 | 第37-38页 |
| ·紫外-可见分光光度计表征透射率 | 第38-39页 |
| 4 退火温度对ITO薄膜的影响 | 第39-45页 |
| ·XRD分析 | 第39-40页 |
| ·SEM分析 | 第40-42页 |
| ·透过率分析 | 第42-43页 |
| ·电阻率分析 | 第43-45页 |
| 5 退火时间间隔对ITO薄膜的影响 | 第45-50页 |
| ·XRD分析 | 第45-46页 |
| ·SEM分析 | 第46-47页 |
| ·透过率分析 | 第47-48页 |
| ·电阻率分析 | 第48-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
