磁控溅射制备铜锡氧薄膜及其性质研究

中文摘要	第1-10页
ABSTRACT	第10-12页
主要符号说明	第12-13页
第一章 引言	第13-23页
·透明导电薄膜的研究背景及其应用	第13-15页
·p型材料的研究	第15-16页
·目前p型材料的种类	第16-20页
·铜铁矿系铜基氧化物	第16-18页
·层状结构的氧硫族化合物、氟硫化合物	第18-19页
·掺杂的普通氧化物	第19-20页
·目前透明导电膜的制备工艺	第20-23页
·反应溅射法	第20页
·蒸发法	第20-21页
·反应离子镀	第21页
·化学气相淀积	第21页
·喷涂高温分解	第21页
·脉冲激光沉积	第21-22页
·其它技术	第22-23页
第二章 课题选取试验设备及样品测试	第23-41页
·课题的选取	第23页
·二氧化锡的性质	第23-28页
·结构性质	第23-25页
·光学性质	第25-26页
·电学性质	第26-28页
·方案设计	第28-30页
·相关设备的介绍	第30-41页
·射频磁控溅射仪	第30-32页
·薄膜各种性能的测量与分析	第32-41页
第三章 铜锡氧薄膜的制备及其性质研究	第41-62页
·铜锡氧体材料的制备及性质研究	第41-46页
·铜锡氧体材料的制备	第41-44页
·不同条件下铜锡氧薄膜的制备	第44-46页
·铜锡氧薄膜结构与表面形貌分析	第46-51页
·铜锡氧薄膜中元素价态与组份分析	第51-54页
·薄膜厚度的分析	第54-55页
·铜锡氧薄膜的光学性能	第55-60页
·薄膜电学性能测量	第60-62页
结论	第62-64页
参考文献	第64-68页
致谢	第68-69页
学位论文评阅及答辩情况表	第69页