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基于自抗扰的低温恒温槽黑体温控系统研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第9-15页
    1.1 研究背景及意义第9-10页
    1.2 国内外恒温槽黑体辐射源温控范围及精度的发展状况第10-12页
        1.2.1 国外黑体辐射源温控现状第10-11页
        1.2.2 国内黑体辐射源温控现状第11-12页
    1.3 黑体辐射源温控系统存在的问题及研究现状第12-13页
        1.3.1 温度控制系统当前存在的问题第12页
        1.3.2 温度控制技术的发展状况第12-13页
    1.4 自抗扰控制技术的发展及应用第13-14页
    1.5 本文研究的主要内容及章节编排第14-15页
        1.5.1 论文研究的主要内容和创新点第14页
        1.5.2 本文章节编排第14-15页
第二章 恒温槽黑体温度控制系统的模型建立与辨识第15-25页
    2.1 恒温槽黑体辐射源的简介第15-16页
    2.2 半导体制冷器基本原理及数学模型第16-20页
    2.3 温度控制系统的模型建立与辨识第20-24页
        2.3.1 恒温槽黑体制冷工作模式的模型建立第21-22页
        2.3.2 恒温槽黑体加热工作模式的模型建立第22-24页
    2.4 本章小结第24-25页
第三章 控制对象控制策略及仿真研究第25-45页
    3.1 控制策略选择的依据第25页
    3.2 经典PID控制及其优缺点第25-27页
    3.3 自抗扰控制理论第27-36页
        3.3.1 跟踪微分器(TD)的一般理论第27-31页
        3.3.2 扩张状态观测器的基本原理第31-34页
        3.3.3 非线性误差反馈控制率(NLSEF)及非线性PID控制第34-35页
        3.3.4 自抗扰控制器参数整定流程第35-36页
    3.4 自抗扰控制在恒温槽黑体温控系统的仿真研究第36-44页
        3.4.1 ADRC在 MATLAB/Simulink平台下的实现第36-37页
        3.4.2 ADRC各个部分在S-function的实现第37-39页
        3.4.3 ADRC控制策略对恒温槽黑体温控系统的控制仿真第39-44页
    3.5 本章小结第44-45页
第四章 温控系统及算法的设计与实现第45-54页
    4.1 硬件系统的设计与实现第45-49页
        4.1.1 系统硬件平台架构及控制原理图第45-46页
        4.1.2 Compact RIO实时控制器第46-48页
        4.1.3 其他硬件的配置第48-49页
    4.2 软件算法的设计与实现第49-53页
        4.2.1 软件架构第50-51页
        4.2.2 人机交互界面第51页
        4.2.3 实时自抗扰控制算法第51-53页
    4.3 本章小结第53-54页
第五章 系统调试及实验结果分析第54-69页
    5.1 自抗扰控制算法在LabVIEW中的实现第54-59页
    5.2 温度控制实验第59-63页
        5.2.1 恒温槽黑体温控实验结果及分析第60-62页
        5.2.2 ADRC在常规黑体温控实验结果及分析第62-63页
    5.3 黑体空腔温度稳定性实验验证第63-65页
        5.3.1 实验方法与仪器第64页
        5.3.2 实验结果分析第64-65页
    5.4 黑体空腔温度均匀性的实验验证第65-68页
    5.5 本章小结第68-69页
第六章 总结与展望第69-71页
    6.1 主要工作内容第69-70页
    6.2 进一步的工作展望第70-71页
参考文献第71-75页
发表论文和科研情况第75-76页
致谢第76页

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