摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-15页 |
1.1 研究背景及意义 | 第9-10页 |
1.2 国内外恒温槽黑体辐射源温控范围及精度的发展状况 | 第10-12页 |
1.2.1 国外黑体辐射源温控现状 | 第10-11页 |
1.2.2 国内黑体辐射源温控现状 | 第11-12页 |
1.3 黑体辐射源温控系统存在的问题及研究现状 | 第12-13页 |
1.3.1 温度控制系统当前存在的问题 | 第12页 |
1.3.2 温度控制技术的发展状况 | 第12-13页 |
1.4 自抗扰控制技术的发展及应用 | 第13-14页 |
1.5 本文研究的主要内容及章节编排 | 第14-15页 |
1.5.1 论文研究的主要内容和创新点 | 第14页 |
1.5.2 本文章节编排 | 第14-15页 |
第二章 恒温槽黑体温度控制系统的模型建立与辨识 | 第15-25页 |
2.1 恒温槽黑体辐射源的简介 | 第15-16页 |
2.2 半导体制冷器基本原理及数学模型 | 第16-20页 |
2.3 温度控制系统的模型建立与辨识 | 第20-24页 |
2.3.1 恒温槽黑体制冷工作模式的模型建立 | 第21-22页 |
2.3.2 恒温槽黑体加热工作模式的模型建立 | 第22-24页 |
2.4 本章小结 | 第24-25页 |
第三章 控制对象控制策略及仿真研究 | 第25-45页 |
3.1 控制策略选择的依据 | 第25页 |
3.2 经典PID控制及其优缺点 | 第25-27页 |
3.3 自抗扰控制理论 | 第27-36页 |
3.3.1 跟踪微分器(TD)的一般理论 | 第27-31页 |
3.3.2 扩张状态观测器的基本原理 | 第31-34页 |
3.3.3 非线性误差反馈控制率(NLSEF)及非线性PID控制 | 第34-35页 |
3.3.4 自抗扰控制器参数整定流程 | 第35-36页 |
3.4 自抗扰控制在恒温槽黑体温控系统的仿真研究 | 第36-44页 |
3.4.1 ADRC在 MATLAB/Simulink平台下的实现 | 第36-37页 |
3.4.2 ADRC各个部分在S-function的实现 | 第37-39页 |
3.4.3 ADRC控制策略对恒温槽黑体温控系统的控制仿真 | 第39-44页 |
3.5 本章小结 | 第44-45页 |
第四章 温控系统及算法的设计与实现 | 第45-54页 |
4.1 硬件系统的设计与实现 | 第45-49页 |
4.1.1 系统硬件平台架构及控制原理图 | 第45-46页 |
4.1.2 Compact RIO实时控制器 | 第46-48页 |
4.1.3 其他硬件的配置 | 第48-49页 |
4.2 软件算法的设计与实现 | 第49-53页 |
4.2.1 软件架构 | 第50-51页 |
4.2.2 人机交互界面 | 第51页 |
4.2.3 实时自抗扰控制算法 | 第51-53页 |
4.3 本章小结 | 第53-54页 |
第五章 系统调试及实验结果分析 | 第54-69页 |
5.1 自抗扰控制算法在LabVIEW中的实现 | 第54-59页 |
5.2 温度控制实验 | 第59-63页 |
5.2.1 恒温槽黑体温控实验结果及分析 | 第60-62页 |
5.2.2 ADRC在常规黑体温控实验结果及分析 | 第62-63页 |
5.3 黑体空腔温度稳定性实验验证 | 第63-65页 |
5.3.1 实验方法与仪器 | 第64页 |
5.3.2 实验结果分析 | 第64-65页 |
5.4 黑体空腔温度均匀性的实验验证 | 第65-68页 |
5.5 本章小结 | 第68-69页 |
第六章 总结与展望 | 第69-71页 |
6.1 主要工作内容 | 第69-70页 |
6.2 进一步的工作展望 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-75页 |
发表论文和科研情况 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |