EUV光刻污染控制技术研究及实验平台设计
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-12页 |
| 1.2 课题来源及意义 | 第12页 |
| 1.3 EUV光刻污染物来源及危害 | 第12-14页 |
| 1.4 国内外发展及研究现状 | 第14-19页 |
| 1.5 本文主要工作和内容 | 第19-21页 |
| 2 实验平台需求分析与初步方案设计 | 第21-29页 |
| 2.1 污染控制需求分析 | 第21页 |
| 2.2 实验平台需求指标描述 | 第21-25页 |
| 2.3 实验平台初步原理方案设计 | 第25-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 3 实验平台详细原理方案设计 | 第29-37页 |
| 3.1 主腔室方案设计 | 第29-31页 |
| 3.2 硅片台腔室方案设计 | 第31-32页 |
| 3.3 硅片传输腔室方案设计 | 第32-33页 |
| 3.4 载片腔室方案设计 | 第33-35页 |
| 3.5 大气模块方案设计 | 第35页 |
| 3.6 本章小结 | 第35-37页 |
| 4 EUV光刻实验平台本体结构设计 | 第37-50页 |
| 4.1 材料与密封方式选择 | 第37-39页 |
| 4.2 实验平台本体结构概述 | 第39-40页 |
| 4.3 曝光及污染控制模块结构设计 | 第40-45页 |
| 4.4 硅片传输模块结构设计 | 第45-48页 |
| 4.5 大气模块结构设计 | 第48-49页 |
| 4.6 本章小结 | 第49-50页 |
| 5 动态气体锁理论研究与仿真分析 | 第50-66页 |
| 5.1 流场类型确定与污染抑制率的定义 | 第50-53页 |
| 5.2 蒙特卡洛直接模拟算法与DS2V软件 | 第53-54页 |
| 5.3 仿真建模 | 第54-55页 |
| 5.4 无清洁气体引入下污染气体分布 | 第55-56页 |
| 5.5 清洁气体类型对抑制率的影响 | 第56-59页 |
| 5.6 清洁气体流量对污染抑制率的影响 | 第59-61页 |
| 5.7 清洁气体注入位置对污染抑制率的影响 | 第61-63页 |
| 5.8 动态气体锁结构优化 | 第63-64页 |
| 5.9 本章小结 | 第64-66页 |
| 6 总结与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 全文总结 | 第66-67页 |
| 6.2 研究展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
