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PCB激光制版系统的图形转移关键技术研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 绪论第10-15页
    1.1 研究背景及意义第10-11页
    1.2 国内外研究现状第11-13页
        1.2.1 大面积PCB曝光的研究现状第11-12页
        1.2.2 高精度PCB曝光的研究现状第12-13页
    1.3 论文主要研究内容及结构安排第13-15页
        1.3.1 主要研究内容第13-14页
        1.3.2 论文结构安排第14-15页
第二章 PCB激光制版系统设计第15-25页
    2.1 整体架构设计第15-16页
    2.2 光学系统设计第16-18页
        2.2.1 紫外激光光源第16页
        2.2.2 匀光透镜设计第16-17页
        2.2.3 投影物镜设计第17-18页
    2.3 DMD驱动设计第18-21页
        2.3.1 DMD微反射镜单元的结构第19-20页
        2.3.2 DMD工作原理第20页
        2.3.3 DMD驱动特性第20页
        2.3.4 DMD选型第20-21页
    2.4 精密位移平台设计第21-24页
        2.4.1 直线电机参数演算第21-23页
        2.4.2 电机驱动模块设计第23-24页
    2.5 本章小结第24-25页
第三章 基于DMD的大面积PCB曝光技术研究第25-44页
    3.1 扫描式曝光原理第25-26页
    3.2 扫描式曝光改进方案第26-40页
        3.2.1 PCB线路图形预处理第27-34页
        3.2.2 外同步模式设计第34-40页
    3.3 扫描式曝光成像模型仿真第40-43页
        3.3.1 微反射镜单元成像模型第40-41页
        3.3.2 拉伸失真模型仿真第41-42页
        3.3.3 仿真结果及讨论第42-43页
    3.4 本章小结第43-44页
第四章 基于DMD的高精度PCB曝光技术研究第44-53页
    4.1 灰阶调制方式第44-46页
        4.1.1 空间灰阶调制第44页
        4.1.2 帧灰阶调制第44-45页
        4.1.3 PWM灰阶调制第45-46页
    4.2 灰阶调制改进方案第46-50页
        4.2.1 亚像素细分及子帧划分第46-47页
        4.2.2 位移补偿策略第47-49页
        4.2.3 优先曝光原则第49-50页
    4.3 改进的灰阶调制模型仿真第50-51页
    4.4 本章小结第51-53页
第五章 实验与测试第53-59页
    5.1 PCB激光制版系统简介第53-54页
    5.2 基于DMD的大面积PCB曝光实验第54-55页
    5.3 基于DMD的高精度PCB曝光实验第55-58页
    5.4 本章小结第58-59页
第六章 结论与展望第59-60页
    6.1 全文总结第59页
    6.2 研究展望第59-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-62页

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