PCB激光制版系统的图形转移关键技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.1 大面积PCB曝光的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.2 高精度PCB曝光的研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3 论文主要研究内容及结构安排 | 第13-15页 |
| 1.3.1 主要研究内容 | 第13-14页 |
| 1.3.2 论文结构安排 | 第14-15页 |
| 第二章 PCB激光制版系统设计 | 第15-25页 |
| 2.1 整体架构设计 | 第15-16页 |
| 2.2 光学系统设计 | 第16-18页 |
| 2.2.1 紫外激光光源 | 第16页 |
| 2.2.2 匀光透镜设计 | 第16-17页 |
| 2.2.3 投影物镜设计 | 第17-18页 |
| 2.3 DMD驱动设计 | 第18-21页 |
| 2.3.1 DMD微反射镜单元的结构 | 第19-20页 |
| 2.3.2 DMD工作原理 | 第20页 |
| 2.3.3 DMD驱动特性 | 第20页 |
| 2.3.4 DMD选型 | 第20-21页 |
| 2.4 精密位移平台设计 | 第21-24页 |
| 2.4.1 直线电机参数演算 | 第21-23页 |
| 2.4.2 电机驱动模块设计 | 第23-24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 基于DMD的大面积PCB曝光技术研究 | 第25-44页 |
| 3.1 扫描式曝光原理 | 第25-26页 |
| 3.2 扫描式曝光改进方案 | 第26-40页 |
| 3.2.1 PCB线路图形预处理 | 第27-34页 |
| 3.2.2 外同步模式设计 | 第34-40页 |
| 3.3 扫描式曝光成像模型仿真 | 第40-43页 |
| 3.3.1 微反射镜单元成像模型 | 第40-41页 |
| 3.3.2 拉伸失真模型仿真 | 第41-42页 |
| 3.3.3 仿真结果及讨论 | 第42-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 基于DMD的高精度PCB曝光技术研究 | 第44-53页 |
| 4.1 灰阶调制方式 | 第44-46页 |
| 4.1.1 空间灰阶调制 | 第44页 |
| 4.1.2 帧灰阶调制 | 第44-45页 |
| 4.1.3 PWM灰阶调制 | 第45-46页 |
| 4.2 灰阶调制改进方案 | 第46-50页 |
| 4.2.1 亚像素细分及子帧划分 | 第46-47页 |
| 4.2.2 位移补偿策略 | 第47-49页 |
| 4.2.3 优先曝光原则 | 第49-50页 |
| 4.3 改进的灰阶调制模型仿真 | 第50-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 实验与测试 | 第53-59页 |
| 5.1 PCB激光制版系统简介 | 第53-54页 |
| 5.2 基于DMD的大面积PCB曝光实验 | 第54-55页 |
| 5.3 基于DMD的高精度PCB曝光实验 | 第55-58页 |
| 5.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 结论与展望 | 第59-60页 |
| 6.1 全文总结 | 第59页 |
| 6.2 研究展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
