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小分子近红外光敏有机场效应管研究

中文摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第10-23页
    1.1 近红外光探测器简介第10-11页
    1.2 无机半导体近红外光探测器第11-13页
    1.3 有机半导体近红外光探测器第13-15页
    1.4 本论文的研究工作及创新点第15-17页
    参考文献第17-23页
第二章 近红外光敏有机场效应管活性层结构、工作原理、制备及表征第23-41页
    2.1 有机半导体简介第23-24页
    2.2 近红外光敏有机场效应管结构第24-26页
    2.3 近红外光敏有机场效应管活性层结构及工作原理第26-29页
    2.4 近红外光敏有机场效应管性能表征第29-30页
    2.5 有机近红外光敏材料第30-32页
    2.6 底栅衬底上有机薄膜的真空热蒸发制备第32-34页
    2.7 近红外光敏有机场效应管制备工艺第34-35页
    2.8 小结第35-36页
    参考文献第36-41页
第三章 衬底温度对酞菁铅单层近红外光敏有机场效应管性能的影响第41-60页
    3.1 背景介绍第41-44页
    3.2 器件制备与表征第44页
    3.3 衬底温度对器件性能的影响第44-51页
        3.3.1 酞菁铅薄膜光吸收特性第44-46页
        3.3.2 酞菁铅薄膜结构第46页
        3.3.3 酞菁铅薄膜表面形貌第46-48页
        3.3.4 不同衬底温度的器件光敏性能第48-51页
    3.4 衬底温度对器件性能的影响:OTS处理第51-56页
        3.4.1 酞菁铅薄膜结构:OTS处理第51-52页
        3.4.2 酞菁铅薄膜表面形貌:OTS处理第52-54页
        3.4.3 不同衬底温度的器件光敏性能:OTS处理第54-56页
    3.5 小结第56-57页
    参考文献第57-60页
第四章 具有诱导层的底栅单层近红外光敏有机场效应管第60-87页
    4.1 背景介绍第60-63页
    4.2 器件制备与表征第63-64页
    4.3 具有酞菁铜诱导层的酞菁铅单层近红外光敏有机场效应管第64-74页
        4.3.1 器件光敏性能第64-69页
        4.3.2 器件性能随酞菁铜诱导层厚度的变化第69-73页
        4.3.3 不同厚度酞菁铜诱导层上酞菁铅薄膜的结构及光吸收特性第73页
        4.3.4 栅介质/有机半导体界面陷阱态密度第73-74页
    4.4 具有并五苯诱导层的酞菁铅单层近红外光敏有机场效应管第74-82页
        4.4.1 器件光敏性能第74-79页
        4.4.2 器件性能随并五苯诱导层厚度的变化第79-81页
        4.4.3 不同厚度并五苯诱导层上酞菁铅薄膜的结构及光吸收特性第81-82页
    4.5 界面诱导机理第82页
    4.6 小结第82-84页
    参考文献第84-87页
第五章 基于平面异质结的近红外光敏有机场效应管第87-114页
    5.1 背景介绍第87-88页
    5.2 器件制备与表征第88-90页
    5.3 沟道迁移率对平面异质结近红外光敏有机场效应管性能的影响第90-93页
    5.4 金属电极对并五苯/PbPc平面异质结近红外光敏有机场效应管性能的影响第93-97页
    5.5 平面异质结类型对近红外光敏有机场效应管性能的影响第97-100页
    5.6 平面异质结近红外光敏有机场效应管的稳定性第100-103页
    5.7 基于并五苯/PbPc/C_(60)的平面异质结近红外光敏有机场效应管第103-110页
        5.7.1 薄膜光吸收特性第103-104页
        5.7.2 器件光敏性能第104-107页
        5.7.3 器件稳定性第107-109页
        5.7.4 器件光响应时间第109-110页
    5.8 小结第110-111页
    参考文献第111-114页
第六章 总结与展望第114-118页
    6.1 研究总结第114-115页
    6.2 研究展望第115-117页
    参考文献第117-118页
附录A 缩写词列表第118-120页
附录B 物理量符号列表第120-122页
在学期间的研究成果第122-124页
致谢第124-125页

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