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基于倍半硅氧烷的环氧树脂基高性能电子封装材料研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-15页
第一章 绪论第15-33页
   ·前言第15-16页
   ·印刷电路板的发展第16-19页
     ·发展历史第16-18页
     ·发展总结及趋势展望第18-19页
   ·基体树脂第19-25页
     ·环氧树脂第20-23页
     ·氰酸酯树脂第23-24页
     ·聚四氟乙烯第24-25页
     ·聚酰亚胺第25页
   ·增强体及成型工艺第25-27页
     ·增强体第25-26页
     ·成型工艺第26-27页
   ·多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)的研究第27-31页
     ·POSS 的定义第27-28页
     ·POSS 的结构特点和优异性能第28-29页
     ·POSS 在纳米改性领域的应用第29-31页
   ·研究目的和意义第31-33页
第二章 单异氰酸酯基倍半硅氧烷改性环氧树脂及覆铜板性能研究第33-83页
   ·引言第33-34页
   ·实验部分第34-40页
     ·实验原料第34-35页
     ·实验步骤第35-38页
     ·测试方法及仪器参数第38-40页
   ·结果与讨论第40-68页
     ·IPDI-POSS(物质 IV)合成过程及各产物表征第40-46页
     ·改性环氧树脂合成过程及产物表征第46-48页
     ·凝胶特性测试第48-50页
     ·环氧树脂固化后性能测试第50-68页
     ·小结第68页
   ·高Tg树脂与普通树脂二元体系测试结果与讨论第68-74页
     ·红外测试(FTIR)第68-69页
     ·凝胶特性测试第69-70页
     ·DSC 测试第70-71页
     ·介电性能测试第71-73页
     ·吸水性能测试第73页
     ·XRD 测试第73-74页
     ·动态力学性能测试第74页
     ·小结第74页
   ·最终配方结果与讨论第74-83页
     ·凝胶特性测试第74-75页
     ·DSC 测试第75-76页
     ·介电性能测试第76-78页
     ·吸水性能测试第78-79页
     ·XRD 测试第79-80页
     ·动态力学性能测试第80-81页
     ·小结第81-83页
第三章 多种倍半硅氧烷在低含量下改性环氧树脂覆铜板性能的性能研究第83-99页
   ·引言第83页
   ·实验部分第83-87页
     ·实验原料第83-84页
     ·八乙烯基 POSS(OVS)和四环氧及四乙烯基 POSS(EOVS)的制备第84-85页
     ·八苯基 POSS(OPS)、八硝苯基 POSS(ONPS)和八氨苯基 POSS(OAPS)的制备第85-86页
     ·T7OH 和 APOS 的合成第86页
     ·POSS 覆铜板的制备第86页
     ·测试方法及仪器参数第86-87页
   ·结果讨论第87-97页
     ·红外测试(FTIR)第87-88页
     ·凝胶特性测试第88-89页
     ·DSC 测试第89-90页
     ·介电性能测试第90-93页
     ·吸水性能测试第93-94页
     ·XRD 测试第94-96页
     ·动态力学热分析第96-97页
   ·小结第97-99页
第四章 总结第99-101页
参考文献第101-105页
致谢第105-107页
研究成果及发表的学术论文第107-109页
作者和导师简介第109-110页
附录第110-111页

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