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微电子器件硅衬底表面污染物去除技术的研究

第一章 绪论第1-15页
 §1-1 清洗技术的发展阶段第8页
 §1-2 清洗的重点第8-11页
  1-2-1 颗粒问题第8-10页
  1-2-2 有机物问题第10页
  1-2-3 金属离子问题第10-11页
  1-2-4 自然氧化层问题第11页
 §1-3 清洗技术的研究现状第11-13页
  1-3-1 清洗效果研究第11-12页
  1-3-2 污染物的形成机理与动力学研究第12页
  1-3-3 微观粗糙化研究第12页
  1-3-4 兆频声作用的研究第12页
  1-3-5 最新动态第12-13页
 §1-4 硅片清洗技术存在的问题与发展方向第13-14页
 §1-5 本课题完成的任务第14-15页
第二章 清洗的基本理论第15-30页
 §2-1 硅片的表面状态第15页
 §2-2 硅片表面的污染第15-19页
  2-2-1 硅片表面沾污的分类第15-16页
  2-2-2 颗粒的污染第16-19页
 §2-3 吸附理论第19-22页
  2-3-1 颗粒吸附状态第19-20页
  2-3-2 优先吸附模型第20-22页
 §2-4 表面活性剂第22-30页
  2-4-1 表面活性剂简介第22页
  2-4-2 表面活性剂水溶液的性质第22-25页
  2-4-3 表面活性剂的机理第25-26页
  2-4-4 表面活性剂的选择第26-28页
  2-4-5 选用的表面活性剂简介第28-30页
第三章 清洗的常用方法与技术第30-40页
 §3-1 溶液浸泡法第30页
 §3-2 机械擦洗法第30-31页
 §3-3 超声波清洗技术第31-34页
  3-3-1 超声清洗设备的构成第31-32页
  3-3-2 超声换能器第32-33页
  3-3-3 影响超声清洗效果的因素第33-34页
 §3-4 兆声波清洗技术第34-36页
  3-4-1 兆声清洗液的作用机理第35页
  3-4-2 表面活性剂产生上述作用的原因第35-36页
 §3-5 激光清洗技术第36-38页
  3-5-1 激光清洗原理第37页
  3-5-2 激光清洗的特点第37页
  3-5-3 激光清洗的应用第37-38页
 §3-6 等离子体清洗技术第38页
 §3-7 汽相清洗技术第38-39页
 §3-8 束流清洗技术第39-40页
第四章 Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ号液的替代技术的实验研究第40-48页
 §4-1 Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ号液的特点分析第40-41页
  4-1-1 Ⅰ号液第40-41页
  4-1-2 Ⅱ号液第41页
  4-1-3 Ⅲ号液第41页
 §4-2 清洗的原理的分析及新方案的确立第41-43页
  4-2-1 对Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ号液改进技术的分析第41-42页
  4-2-2 替代清洗的原理分析第42-43页
  4-2-3 选用非离子表面活性剂第43页
  4-2-4 选用整合剂第43页
 §4-3 实验过程及结果分析第43-47页
  4-3-1 活性剂浓度对PH值的影响第43页
  4-3-2 复合试剂浓度对溶液PH值的影响第43-45页
  4-3-3 温度对溶液PH值的影响第45-46页
  4-3-4 超声时间长短对清洗效果的影响第46-47页
  4-3-5 多次超声对清洗效果的影响第47页
 §4-4 结论第47-48页
第五章 硅研磨片超声波清洗的实验研究第48-52页
 §5-1 对磨片表面状态及杂质沾污的理论分析第48页
 §5-2 实验第48-51页
  5-2-1 实验设备及实验所用试剂第48页
  5-2-2 实验过程分析第48-51页
 §5-3 实验结论第51-52页
第六章 提高液晶显示屏的清洗效率的研究第52-59页
 §6-1 液晶显示屏清洗的意义第52页
 §6-2 液晶的清洗第52-53页
  6-2-1 清洗的概念和方法介绍第52页
  6-2-2 液晶显示屏的清洗第52-53页
 §6-3 液晶显示屏清洗技术的进一步研究第53-54页
  6-3-1 理论基础第53页
  6-3-2 实验所用设备及试剂第53-54页
 §6-4 实验过程及其观察结果第54-58页
  6-4-1 清洗液的制备第54页
  6-4-2 实验过程及结果第54-58页
 §6-5 结论第58-59页
第七章 结论第59-60页
参考文献第60-63页
致谢第63-64页
攻读学位期间所取得的相关科研成果第64页

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