集成电路随机缺陷成品率预测技术研究
| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第16-25页 |
| 1.1 研究背景 | 第16-17页 |
| 1.2 集成电路成品率的丢失机制与分类 | 第17-21页 |
| 1.3 随机缺陷成品率预测技术的研究现状 | 第21-23页 |
| 1.4 论文创新点及论文结构 | 第23-24页 |
| 1.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 第2章 随机缺陷成品率预测技术 | 第25-49页 |
| 2.1 成品率预测模型 | 第25-27页 |
| 2.2 随机缺陷 | 第27-35页 |
| 2.2.1 缺陷的分类 | 第27-28页 |
| 2.2.2 缺陷的检测方法 | 第28-31页 |
| 2.2.3 缺陷的分布特征 | 第31-33页 |
| 2.2.4 缺陷模型的分类 | 第33-35页 |
| 2.3 关键面积 | 第35-47页 |
| 2.3.1 关键面积的分类 | 第35-37页 |
| 2.3.2 关键面积的计算方法 | 第37-45页 |
| 2.3.3 基于关键面积的成品率提高方法 | 第45-47页 |
| 2.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第3章 考虑CMP划痕缺陷的成品率预测模型 | 第49-63页 |
| 3.1 研究背景 | 第49-50页 |
| 3.2 线形缺陷模型的提出 | 第50-52页 |
| 3.3 基于线形缺陷模型的缺陷尺寸分布 | 第52页 |
| 3.4 基于线形缺陷模型的关键面积计算 | 第52-55页 |
| 3.5 实验设计与数据分析 | 第55-62页 |
| 3.6 本章小结 | 第62-63页 |
| 第4章 针对曼哈顿版图的关键面积数学建模 | 第63-84页 |
| 4.1 研究背景 | 第63-64页 |
| 4.2 关键面积数学建模 | 第64-74页 |
| 4.2.1 关键面积区域分类 | 第64-65页 |
| 4.2.2 FECA区域面积的数学建模 | 第65-67页 |
| 4.2.3 RECA区域面积的数学建模 | 第67-69页 |
| 4.2.4 分段二次函数数学模型的提出 | 第69-70页 |
| 4.2.5 分界点的确定 | 第70-74页 |
| 4.2.6 系数的确定 | 第74页 |
| 4.3 改进的多边形算子方法 | 第74-77页 |
| 4.3.1 算法流程和复杂度分析 | 第75页 |
| 4.3.2 优化缺陷尺寸选取策略 | 第75-77页 |
| 4.4 实验设计与数据分析 | 第77-82页 |
| 4.5 本章小结 | 第82-84页 |
| 第5章 基于Voronoi图的关键面积动态提取法 | 第84-93页 |
| 5.1 研究背景 | 第84-86页 |
| 5.2 Voronoi图重构 | 第86-88页 |
| 5.3 关键面积重提区域边界界定 | 第88-90页 |
| 5.4 实验设计与数据分析 | 第90-92页 |
| 5.5 本章小结 | 第92-93页 |
| 第6章 总结与展望 | 第93-96页 |
| 6.1 论文总结 | 第93-94页 |
| 6.2 工作展望 | 第94-96页 |
| 参考文献 | 第96-105页 |
| 作者简历及攻读博士学位期间的研究成果 | 第105-106页 |
