| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-18页 |
| 1.2.1 各种类型传感器的研究现状 | 第11-17页 |
| 1.2.2 微结构对传感器的影响因素 | 第17-18页 |
| 1.3 本论文主要研究内容、创新点和结论 | 第18-20页 |
| 第二章 柔性电极的制备和优化 | 第20-43页 |
| 2.1 实验部分 | 第22-25页 |
| 2.1.1 主要原料、试剂和设备 | 第22-24页 |
| 2.1.2 PI的表面处理 | 第24-25页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第25-40页 |
| 2.2.1 相同pH的KOH溶液和TMA溶液处理PI效果对比 | 第25-27页 |
| 2.2.2 不同浓度的KOH溶液和TMA溶液处理PI薄膜并镀铜 | 第27-40页 |
| 2.3 碱处理PI的改性机理研究 | 第40-42页 |
| 2.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 表面自组装制备具有均一微结构的PDMS薄膜 | 第43-52页 |
| 3.1 引言 | 第43-44页 |
| 3.2 实验部分 | 第44-48页 |
| 3.2.1 主要原料、试剂和设备 | 第44-45页 |
| 3.2.2 PI镀铜薄膜的制备 | 第45页 |
| 3.2.3 二甲基硅氧烷预聚物的配制 | 第45页 |
| 3.2.4 PI负载自组装PS微球薄膜的制备 | 第45-47页 |
| 3.2.5 PDMS微结构薄膜的制备 | 第47-48页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第48-51页 |
| 3.3.1 旋涂速度对PDMS-PS薄膜成型的影响 | 第48页 |
| 3.3.2 镀铜极片面积对PDMS-PS薄膜成型的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.3 基底材料对PDMS-PS薄膜成型的影响 | 第49页 |
| 3.3.4 优化工艺后得到的PDMS-PS薄膜原子力显微镜（AFM）表征 | 第49-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 具有微结构PDMS压力电容传感器的制备和表征 | 第52-65页 |
| 4.1 引言 | 第52-53页 |
| 4.2 实验部分 | 第53-59页 |
| 4.2.1 打印栅格状电极 | 第53-55页 |
| 4.2.2 使用PS微球制备不同微结构的PDMS薄膜 | 第55-56页 |
| 4.2.3 压力传感器的封装与测试 | 第56-59页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第59-64页 |
| 4.3.1 喷墨印刷栅格状结构电极 | 第59页 |
| 4.3.2 使用PS微球制备不同微结构的PDMS薄膜 | 第59-62页 |
| 4.3.3 电介质微结构对电容器灵敏度的影响 | 第62-64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 TMA-PI改性基底和压力电容传感器的应用 | 第65-69页 |
| 5.1 基于TMA-PI的喷墨打印应用 | 第65-66页 |
| 5.2 基于压力电容传感器的应用 | 第66-69页 |
| 第六章 全文总结和展望 | 第69-71页 |
| 6.1 全文总结 | 第69页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第78-79页 |
