| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·微电极背景及意义 | 第9-10页 |
| ·微电极国内外研究现状 | 第10-17页 |
| ·筛状电极 | 第10-11页 |
| ·卡夫电极 | 第11-13页 |
| ·螺旋电极 | 第13-14页 |
| ·剑状电极 | 第14-15页 |
| ·针形电极阵列 | 第15-17页 |
| ·微电极研究的目的及内容 | 第17-19页 |
| 第二章 微电极设计 | 第19-33页 |
| ·基底和封装材料 | 第19-22页 |
| ·电极和引线材料 | 第22-23页 |
| ·柔性微电极的设计 | 第23-28页 |
| ·基于 LIGA-like 工艺整体电极结构的设计 | 第23-24页 |
| ·SU-8 斜曝光设计 | 第24-25页 |
| ·掩膜版的设计 | 第25页 |
| ·斜曝光装置设计 | 第25-28页 |
| ·加工工艺的设计 | 第28-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 微电极阵列的制备工艺研究 | 第33-60页 |
| ·实验设备 | 第33-36页 |
| ·微电极阵列制备工艺流程 | 第36-49页 |
| ·SU-8 衬底制备 | 第36-39页 |
| ·SU-8 通道制备 | 第39-41页 |
| ·PDMS 倒模 | 第41-46页 |
| ·溅射金属 | 第46-47页 |
| ·微电极制图 | 第47-49页 |
| ·相关工艺研究 | 第49-59页 |
| ·SU-8 斜曝光 | 第49-53页 |
| ·对溅射有银的 PDMS 应变电阻研究 | 第53-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 微电极阵列制备表征及讨论 | 第60-66页 |
| ·SU-8 通道制作 | 第60-61页 |
| ·SU-8 制备 | 第60页 |
| ·SU-8 通道制备 | 第60-61页 |
| ·PDMS 两次倒膜 | 第61-64页 |
| ·PDMS 第一次倒膜 | 第61-62页 |
| ·PDMS 第二次倒模 | 第62-64页 |
| ·溅射金属 | 第64-65页 |
| ·电极阵列制备 | 第65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 结论与展望 | 第66-69页 |
| ·工作总结 | 第66-67页 |
| ·设计工作的总结 | 第66-67页 |
| ·实验工作的总结 | 第67页 |
| ·工作展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-81页 |
| 攻读硕士期间所取得的研究成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |