氧化钒薄膜的制备及其热致变色特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·氧化钒晶体结构及其性质 | 第11-14页 |
| ·氧化钒化合物性质 | 第11页 |
| ·V_2O_5结构和特性 | 第11-12页 |
| ·VO_2的结构和特性 | 第12-14页 |
| ·氧化钒薄膜的相变特性 | 第14-18页 |
| ·VO_2的相变特性 | 第14-16页 |
| ·V_2O_5薄膜的相变特性 | 第16-17页 |
| ·VO_2薄膜的相变理论分析 | 第17-18页 |
| ·氧化钒薄膜的应用领域 | 第18-21页 |
| ·智能窗 | 第19页 |
| ·红外热敏电阻 | 第19页 |
| ·光电开关 | 第19-20页 |
| ·激光防辐射 | 第20页 |
| ·光学信息存储 | 第20页 |
| ·其他方面的应用 | 第20-21页 |
| ·国内外研究的动态发展 | 第21-23页 |
| ·研究本课题的目的和意义 | 第23-25页 |
| 第二章 氧化钒薄膜的制备 | 第25-34页 |
| ·氧化钒薄膜的制备方法 | 第25-28页 |
| ·氧化钒薄膜的表征 | 第28-33页 |
| ·电学性能表征 | 第28-30页 |
| ·组分及其化合价表征 | 第30页 |
| ·晶体结构表征 | 第30-31页 |
| ·形貌表征 | 第31-32页 |
| ·光学性能表征 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 磁控溅射法制备氧化钒薄膜 | 第34-56页 |
| ·磁控溅射法的原理 | 第34-35页 |
| ·磁控溅射工艺流程 | 第35-37页 |
| ·实验装置 | 第35-36页 |
| ·基片的清洗 | 第36-37页 |
| ·实验工艺流程 | 第37页 |
| ·不同溅射时间制备氧化钒薄膜 | 第37-55页 |
| ·红外透过率 | 第38-39页 |
| ·透射率对比因子 | 第39-40页 |
| ·相变温度 | 第40-41页 |
| ·光学常量及其膜厚 | 第41-48页 |
| ·薄膜的电学性质 | 第48-52页 |
| ·形貌分析 | 第52-54页 |
| ·晶体结构 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 高氧条件下制备氧化钒薄膜 | 第56-62页 |
| ·薄膜红外透射率分析 | 第56-58页 |
| ·薄膜在高温和低温时的红外透过率分析 | 第58-59页 |
| ·薄膜的透射率对比因子分析 | 第59-60页 |
| ·薄膜的相变温度分析 | 第60-61页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 结论和后续工作展望 | 第62-64页 |
| ·结论 | 第62-63页 |
| ·不同的溅射时间制备氧化钒薄膜 | 第62-63页 |
| ·不同的氧流量下制备氧化钒薄膜 | 第63页 |
| ·后续工作展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第70页 |
