| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·当今半导体测量方法和技术趋势 | 第9-12页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第9-10页 |
| ·扫描隧道显微镜（STM） | 第10页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第10-12页 |
| ·光栅结构的衍射场模拟方法的发展概况及现状 | 第12-14页 |
| ·本论文的选题及研究内容 | 第14-15页 |
| 第二章 傅里叶分解的原理 | 第15-21页 |
| 第三章 RCWA 的基本原理 | 第21-39页 |
| ·RCWA 在一维周期结构材料分析中的基本理论 | 第21-28页 |
| ·RCWA 扩展至二维周期结构的理论分析 | 第28-39页 |
| ·入射波 | 第29-30页 |
| ·推导矩阵方程 | 第30-32页 |
| ·求解反射率 R | 第32-39页 |
| 第四章 NV-RCWA | 第39-49页 |
| ·NV-RCWA 的原理 | 第39-42页 |
| ·NV-RCWA 中引入矩阵的具体构造实例 | 第42-45页 |
| ·不同 NV 场的结果比对 | 第45-46页 |
| ·NV-RCWA 和 RCWA 的结果比对 | 第46-47页 |
| ·α 参数法的提出 | 第47-49页 |
| 第五章 Levenberg-Marquardt 优化方法 | 第49-58页 |
| ·最速下降法 | 第50-51页 |
| ·牛顿法 | 第51-52页 |
| ·高斯—牛顿法 | 第52-53页 |
| ·Levenberg-Marquardt 方法 | 第53-58页 |
| 第六章 NVRCWA 与 RCWA 的软件架构与实现 | 第58-61页 |
| ·介质材料的 N、K 值 | 第58页 |
| ·Clapack 函数库简介 | 第58-59页 |
| ·FFTW 库简介 | 第59-61页 |
| 第七章 结束语 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第65-66页 |