| 第一章 绪论 | 第1-21页 |
| ·半导体产业的发展及其在国民经济中的地位 | 第9-11页 |
| ·光学光刻技术的发展及国内外现状 | 第11-16页 |
| ·光学光刻仿真技术的发展及国内外现状 | 第16-17页 |
| ·本研究的目的及意义 | 第17-19页 |
| ·本论文的特色及内容安排 | 第19-21页 |
| 第二章 光学系统对光刻性能影响的研究 | 第21-53页 |
| ·引言 | 第21-22页 |
| ·投影物镜数值孔径及照明系统相干因子对焦深的影响 | 第22-44页 |
| ·像差对曝光图形空间偏移(PD：Pattern Displacement)的影响 | 第44-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第三章 掩模及工件台同步精度对光刻性能影响的研究 | 第53-72页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·工件台同步精度及传统掩模的模板偏差(Mask Bias)对线宽均匀性(CD uniformity)的影响研究 | 第54-59页 |
| ·工件台同步精度及衰减型相移掩模的透过率偏差(Transmittance Error)及相位偏差(Phase Error)对线宽均匀性(CD uniformity)的影响研究 | 第59-67页 |
| ·工件台同步精度及交替型相移掩模的相位偏差(Phase Error)对线宽均匀性(CD uniformity)的影响研究 | 第67-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第四章 综合考虑各分系统对光刻性能的影响 | 第72-85页 |
| ·引言 | 第72页 |
| ·传统照明条件下，光学、掩模、工件台系统对光刻性能的影响 | 第72-76页 |
| ·环形照明条件下，光学、掩模、工件台系统对光刻性能的影响 | 第76-79页 |
| ·四极照明条件下，光学、掩模、工件台系统对光刻性能的影响 | 第79-83页 |
| ·本章小结 | 第83-85页 |
| 第五章 光刻仿真辅助设计软件MicroCruiser | 第85-121页 |
| ·引言 | 第85-86页 |
| ·光刻仿真辅助设计软件MicroCruiser的功能、特点 | 第86-87页 |
| ·光刻仿真辅助设计软件MicroCruiser的详细设计 | 第87-120页 |
| ·本章小结 | 第120-121页 |
| 第六章 本课题可持续研究展望 | 第121-126页 |
| ·引言 | 第121-122页 |
| ·传统ArF光刻延展至65nm节点的可行性研究 | 第122-123页 |
| ·浸没式ArF光刻延展至45nm节点的可行性研究 | 第123-125页 |
| ·本章小节 | 第125-126页 |
| 第七章 本课题总结 | 第126-128页 |
| 参考文献 | 第128-135页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的文章 | 第135-136页 |
| 攻读硕士期间获得的计算机软件著作权 | 第136-137页 |
| 中英文对照表 | 第137-138页 |
| 致谢 | 第138-139页 |
| 图表说明 | 第139-142页 |
