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GaN基和ZnTe半导体材料的制备和光学特性研究

摘要第13-18页
ABSTRACT第18-24页
符号表第25-26页
第一章 绪论第26-44页
    1-1 半导体材料的研究背景第26-27页
    1-2 半导体材料的基本特性第27-32页
        1-2-1 Ⅲ族氮化物半导体的基本特性第27-31页
            1-2-1-1 基本结构第27-28页
            1-2-1-2 基本性质第28-29页
            1-2-1-3 能带结构第29-31页
        1-2-2 Ⅱ-Ⅵ族ZnTe半导体的基本特性第31-32页
            1-2-2-1 基本结构第31页
            1-2-2-2 基本性质第31-32页
            1-2-2-3 能带结构第32页
    1-3 选题依据第32-37页
        1-3-1 InGaN/GaN基LED在发光效率方面所存在的问题第32-36页
            1-3-1-1 InGaN/GaN多量子阱基LED结构第33-34页
            1-3-1-2 InGaN/GaN多量子阱中的QCSE第34-36页
            1-3-1-3 InGaN/GaN多量子阱中的相分离及局域效应第36页
        1-3-2 AlGaN/GaN异质结在电学应用中所存在的问题第36-37页
        1-3-3 ZnTe异质外延所面临的问题第37页
    1-4 本论文的工作及主要内容第37-39页
    参考文献第39-44页
第二章 半导体中的基本光学过程第44-54页
    2-1 光吸收过程第44-48页
        2-1-1 本征吸收第44-46页
        2-1-2 激子吸收第46-47页
        2-1-3 晶格振动吸收第47页
        2-1-4 杂质吸收第47-48页
    2-2 光辐射过程第48-52页
        2-2-1 带间跃迁发光第48-49页
        2-2-2 激子发光第49-51页
        2-2-3 施主-受主对(DAP)复合发光第51-52页
        2-2-4 导带至受主(e-A)和价带到施主(h-D)跃迁发光第52页
    2-3 本章小结第52-53页
    参考文献第53-54页
第三章 材料的制备和表征第54-66页
    3-1 金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长技术第54-59页
        3-1-1 MOCVD简介第54-56页
        3-1-2 衬底材料的选择第56-58页
        3-1-3 外延生长模式第58-59页
    3-2 材料的表征方法第59-63页
        3-2-1 光致发光(PL)第59-60页
        3-2-2 电致发光(EL)第60-61页
        3-2-3 透射电子显微镜(TEM)第61-62页
        3-2-4 霍尔(Hall)效应测试仪第62-63页
    3-3 本章小结第63-64页
    参考文献第64-66页
第四章 激发功率对相分离InGaN/GaN多量子阱PL温度依赖性的影响第66-80页
    4-1 样品制备与测试过程第66-67页
    4-2 实验结果与讨论第67-75页
        4-2-1 样品结构表征第67-68页
        4-2-2 样品PL谱特征分析第68-70页
        4-2-3 低功率下PL强度、峰位能量和线宽的温度依赖性第70-73页
        4-2-4 高功率下PL强度、峰位能量和线宽的温度依赖性第73-75页
    4-3 本章小结第75-77页
    参考文献第77-80页
第五章 铟组份和阱宽对InGaN/GaN多量子阱基LED EL的综合影响第80-92页
    5-1 样品制备和测试过程第80-81页
    5-2 实验结果与讨论第81-88页
        5-2-1 铟组份和阱宽对EL谱特征的影响第82页
        5-2-2 高铟组份和窄阱宽样品EL谱的温度和注入电流依赖性第82-84页
        5-2-3 低铟组份和宽阱宽样品EL谱的温度和注入电流依赖性第84-86页
        5-2-4 铟组份和阱宽对外量子效率的影响第86-88页
    5-3 本章小结第88-89页
    参考文献第89-92页
第六章 GaN外延层和AlGaN/GaN异质结的光电特性研究第92-104页
    6-1 样品制备与测试过程第92-93页
    6-2 实验结果与讨论第93-100页
        6-2-1 GaN外延层和AlGaN/GaN异质结构的光学特性第93-96页
            6-2-1-1 GaN外延层的PL特性第93-95页
            6-2-1-2 AlGaN/GaN异质结与GaN外延层PL特性的比较第95-96页
        6-2-2 AlGaN垒层厚度对AlGaN/GaN异质结构光电特性的影响第96-100页
            6-2-2-1 AlGaN垒层厚度对AlGaN/GaN异质结PL特性的影响第97-98页
            6-2-2-2 AlGaN垒层厚度对AlGaN/GaN异质结电学特性的影响第98-100页
    6-3 本章小结第100-101页
    参考文献第101-104页
第七章 ZnTe异质外延层和ZnTe体单晶的PL特性研究第104-118页
    7-1 样品制备与测试过程第104-105页
    7-2 实验结果与讨论第105-113页
        7-2-1 ZnTe异质外延层和ZnTe体单晶PL谱的激发功率依赖性第105-109页
        7-2-2 ZnTe异质外延层和ZnTe体单晶PL谱的温度依赖性第109-113页
    7-3 本章小结第113-115页
    参考文献第115-118页
第八章 结论第118-122页
致谢第122-124页
攻读博士学位期间发表的学术成果第124-126页
Paper-1第126-132页
Paper-2第132-137页
Paper-3第137-143页
学位论文评阅及答辩情况表第143页

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