| 摘要 | 第1-11页 |
| ABSTRACT | 第11-13页 |
| 符号表 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-26页 |
| ·透明导电膜 | 第14-17页 |
| ·具有缓冲层的透明导电氧化物薄膜的研究现状 | 第17-20页 |
| ·透明导电薄膜的制备方法 | 第20-24页 |
| ·溅射镀膜 | 第20-21页 |
| ·离子成膜技术 | 第21-22页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第22页 |
| ·脉冲激光沉积法(Pulsed Laser Deposition,PLD) | 第22-23页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积 | 第23页 |
| ·溶胶—凝胶法(sol-gel) | 第23页 |
| ·喷涂热解法(Spray Pyrolysis) | 第23-24页 |
| ·研究课题选取 | 第24-26页 |
| 第二章 薄膜制备与测试 | 第26-40页 |
| ·磁控溅射 | 第26-27页 |
| ·溅射原理 | 第27页 |
| ·直流溅射 | 第27页 |
| ·射频溅射 | 第27页 |
| ·glass/TiO_2/AZO薄膜样品制备 | 第27-31页 |
| ·MIS-560B型超高真空磁控溅射与离子束溅射复合镀膜设备介绍 | 第27-29页 |
| ·glass/TiO_2/AZO薄膜样品制备 | 第29-31页 |
| ·glass/TiO_2/AZO薄膜样品后处理 | 第31-32页 |
| ·传统管式炉子退火 | 第31页 |
| ·快速退火处理 | 第31-32页 |
| ·测试方法及原理 | 第32-40页 |
| ·薄膜相结构与形貌表征 | 第32-33页 |
| ·电学特性测量 | 第33-38页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第38-39页 |
| ·薄膜透射光谱的测量 | 第39-40页 |
| 第三章 TiO_2缓冲层厚度对glass/TiO_2/AZO薄膜性质的影响 | 第40-49页 |
| ·TiO_2厚度变化对glass/TiO_2/AZO薄膜结构特性的影响 | 第40-41页 |
| ·TiO_2厚度变化对glass/TiO_2/AZO薄膜电学特性的影响 | 第41-43页 |
| ·TiO_2厚度变化对glass/TiO_2/AZO薄膜光学特性的影响 | 第43-49页 |
| ·glass/TiO_2/AZO薄膜光学透过率 | 第43-45页 |
| ·glass/TiO_2/AZO薄膜的禁带宽度 | 第45-49页 |
| 第四章 真空快速退火对glass/TiO_2/AZO薄膜性质的影响 | 第49-60页 |
| ·真空快速退火对glass/TiO_2/AZO薄膜结构性质的影响 | 第49-52页 |
| ·真空快速退火对glass/TiO_2/AZO薄膜电学性质的影响 | 第52-56页 |
| ·快速退火后glass/TiO_2/AZO薄膜常温电学性质 | 第52-54页 |
| ·快速退火后glass/TiO_2/AZO薄膜低温电学性质 | 第54-56页 |
| ·真空快速退火对glass/TiO_2/AZO薄膜光学性质的影响 | 第56-60页 |
| 第五章 glass/TiO_2/AZO薄膜稳定性研究 | 第60-66页 |
| ·环境温度变化对glass/TiO_2/AZO薄膜结构性质的影响 | 第60-61页 |
| ·环境温度变化对glass/TiO_2/AZO薄膜电学性质的影响 | 第61-63页 |
| ·环境温度变化对glass/TiO_2/AZO薄膜光学性质的影响 | 第63-66页 |
| 第六章 结论 | 第66-69页 |
| ·主要成果 | 第66-68页 |
| ·主要创新点 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第81-82页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第82页 |
