红外与太赫兹波衍射器件的设计与制作
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-13页 |
·研究背景 | 第9-11页 |
·课题来源和论文主要工作 | 第11-13页 |
2 衍射理论基础 | 第13-21页 |
·瑞利索末菲衍射理论 | 第13-14页 |
·角谱衍射理论 | 第14-17页 |
·相位恢复算法 | 第17-21页 |
3 器件制作原理 | 第21-25页 |
·工艺流程 | 第21-22页 |
·硅的湿法腐蚀 | 第22-23页 |
·硅的干法腐蚀 | 第23-24页 |
·版图设计与制作 | 第24-25页 |
4 软件实现 | 第25-34页 |
·衍射仿真与相位恢复 | 第25-28页 |
·孔径计算及版图生成 | 第28-31页 |
·软件编写与功能 | 第31-34页 |
5 软件的应用 | 第34-58页 |
·运用瑞利索末菲衍射理论仿真聚焦器件 | 第34-37页 |
·运用角谱衍射理论仿真远场成像 | 第37-44页 |
·版图计算 | 第44-47页 |
·波前仿真 | 第47-53页 |
·相位分区计算 | 第53-58页 |
6 太赫兹器件的仿真、制作与测试 | 第58-83页 |
·器件仿真 | 第58-60页 |
·器件的湿法制作 | 第60-63页 |
·性能的测试与分析 | 第63-83页 |
7 总结 | 第83-84页 |
致谢 | 第84-85页 |
参考文献 | 第85-89页 |
附录1 攻读硕士学位期间发表论文 | 第89页 |