| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| ·MEMS技术的发展和国内外现状 | 第7-9页 |
| ·硅微通道结构释放技术简介 | 第9-10页 |
| ·硅微通道整形技术简介 | 第10-13页 |
| ·本文研究的主要内容及意义 | 第13-15页 |
| 第二章 硅微通道结构释放及整形工艺理论 | 第15-20页 |
| ·硅微通道湿法腐蚀结构释放工艺原理 | 第15-17页 |
| ·硅微通道湿法腐蚀整形工艺原理 | 第17-20页 |
| 第三章 硅微通道结构释放技术实验研究 | 第20-29页 |
| ·硅微通道结构释放实验设备介绍 | 第20-22页 |
| ·硅微通道结构释放实验设计 | 第22-25页 |
| ·硅微通道结构释放实验的结果及分析 | 第25-29页 |
| 第四章 硅微通道整形技术实验研究 | 第29-39页 |
| ·硅微通道整形实验设备介绍 | 第29-30页 |
| ·硅TMAH腐蚀速率实验及结果分析 | 第30-36页 |
| ·硅微通道TMAH整形实验及结果分析 | 第36-39页 |
| 结论 | 第39-40页 |
| 致谢 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |