| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| ·红外光源的发展状况 | 第7-9页 |
| ·MEMS红外光源 | 第9-14页 |
| ·MEMS红外光源的应用领域 | 第14-15页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 基础理论 | 第16-23页 |
| ·黑体辐射原理 | 第16-19页 |
| ·散射系数的计算 | 第19-23页 |
| 第三章 硅微通道阵列结构红外光源窗口制备 | 第23-36页 |
| ·阵列结构红外光源窗口的主要工艺 | 第23-29页 |
| ·硅微通道阵列光电化学腐蚀工艺过程 | 第29-32页 |
| ·硅微通道阵列结构红外窗口的光谱测试 | 第32-36页 |
| 第四章 硅微通道阵列机构红外窗口的辐射特性研究 | 第36-44页 |
| ·硅材料的红外特性 | 第36-37页 |
| ·硅微通道阵列结构红外源窗口的反射率分析 | 第37-40页 |
| ·硅微通道阵列结构红外源窗口的辐射通量计算 | 第40-44页 |
| 结论 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |