| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 文献综述部分 | 第11-21页 |
| ·引言 | 第11-15页 |
| ·ZnO 薄膜的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·ZnO 薄膜的能带结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO 薄膜的光学性能 | 第13-14页 |
| ·ZnO 薄膜的电学性能 | 第14-15页 |
| ·ZnO 薄膜的其他性能 | 第15页 |
| ·ZnO 薄膜制备技术简介 | 第15-19页 |
| ·磁控溅射工艺（Magnetron Sputtering） | 第15页 |
| ·脉冲激光沉积工艺（PLD） | 第15-16页 |
| ·分子束外延工艺（MBE） | 第16页 |
| ·金属有机化学气相沉积（MOCVD） | 第16-19页 |
| ·本文的选题依据及主要内容 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-21页 |
| 第二章 SR-MOCVD 系统的搭建与调试 | 第21-29页 |
| ·SR-MOCVD 系统的介绍 | 第21-23页 |
| ·典型photo-CVD 系统介绍 | 第21-22页 |
| ·SR-MOCVD 系统介绍 | 第22-23页 |
| ·SR-MOCVD 系统的制备 | 第23-26页 |
| ·ZnO 生长用MOCVD 生长室的研制 | 第23-24页 |
| ·SR-MOCVD 生长室接入到储存环 | 第24-26页 |
| ·SR-MOCVD 系统的调试 | 第26-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 参考文献 | 第28-29页 |
| 第三章 源材料表征及生长工艺 | 第29-42页 |
| ·实验源材料 | 第29-30页 |
| ·金属有机源及载气 | 第29页 |
| ·氧源和氮源 | 第29页 |
| ·衬底及其处理 | 第29-30页 |
| ·前驱体(DEZn)的表征及分析 | 第30-38页 |
| ·二乙基锌的光电离解离实验 | 第30-31页 |
| ·二乙基锌的光电离质谱 | 第31-32页 |
| ·二乙基锌同步辐射光电离效率曲线 | 第32-35页 |
| ·主要产物离子的解离通道及其离子生成焓 | 第35-37页 |
| ·主要产物离子的分支比 | 第37-38页 |
| ·工艺过程 | 第38-39页 |
| ·MOCVD 方法制备ZnO 薄膜 | 第38-39页 |
| ·SR-MOCVD 方法制备ZnO 薄膜 | 第39页 |
| ·薄膜制备中的常见问题及处理 | 第39页 |
| ·性能表征 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第四章 ZnO 薄膜的表征结果 | 第42-59页 |
| ·ZnO 薄膜的形貌 | 第42-46页 |
| ·SR-MOCVD 方法生长的ZnO 薄膜 | 第42-44页 |
| ·SR 对于ZnO 薄膜形貌的影响 | 第44-46页 |
| ·ZnO 薄膜的结晶质量 | 第46-48页 |
| ·ZnO 薄膜的 XPS 谱 | 第48-51页 |
| ·ZnO 薄膜的光致发光性能 | 第51-57页 |
| ·实验中出现的ZnO 薄膜的特殊光谱性质 | 第54-55页 |
| ·氧源对ZnO 薄膜发光特性的影响 | 第55-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第五章 ZnO 薄膜的生长机理 | 第59-65页 |
| ·沉积原理简介 | 第59-61页 |
| ·SR-MOCVD 系统中 ZnO 薄膜生长机理的讨论 | 第61页 |
| ·SR-MOCVD 系统中 ZnO 薄膜生长机理的讨论 | 第61-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 第六章 总结 | 第65-66页 |
| 硕士期间发表的文章 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
