首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--场效应器件论文

基于磷化铟材料的三端电子器件建模研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-17页
    1.1 前言第10-11页
    1.2 InP HEMT器件的发展与现状第11-13页
        1.2.1 InP HEMT器件的发展第11-12页
        1.2.2 国内外InP HEMT器件的研究现状第12-13页
    1.3 InP HEMT器件模型的发展与现状第13-15页
    1.4 研究目的与意义第15页
    1.5 本论文的主要研究内容第15-17页
第二章 InP HEMT器件第17-29页
    2.1 HEMT器件原理第17-22页
        2.1.1 HEMT器件的直流特性第18-19页
        2.1.2 HEMT器件的交流特性第19-22页
    2.2 器件结构与工艺第22-24页
        2.2.1 HEMT器件的外延结构第22-24页
        2.2.2 HEMT器件的制作工艺第24页
    2.3 器件性能表征第24-28页
        2.3.1 器件直流特性第25-27页
        2.3.2 器件交流特性第27-28页
    2.4 本章小结第28-29页
第三章 小信号模型的建立第29-49页
    3.1 小信号模型的介绍第30-34页
        3.1.1 寄生电感L_g,L_d,L_s第30-31页
        3.1.2 寄生电容C_(gs),C_(gd),C_(ds)第31页
        3.1.3 寄生电阻R_g,R_d,R_d第31-32页
        3.1.4 器件跨导G_m第32页
        3.1.5 本征电容C_(gs)、C_(gd)、C_(ds)第32-33页
        3.1.6 输出电导G_d第33页
        3.1.7 沟道电阻R第33页
        3.1.8 时间因子τ第33-34页
    3.2 寄生参数的提取第34-41页
        3.2.1 寄生电容的提取第34-35页
        3.2.2 寄生电感的提取第35-36页
        3.2.3 寄生电阻的提取第36-41页
    3.3 本征参数的提取第41-44页
    3.4 小信号模型的建立第44-46页
    3.5 小信号模型的改进第46-48页
    3.6 本章小结第48-49页
第四章 陷阱电荷对射频器件建模的影响研究第49-59页
    4.1 HEMT器件中Trap的起源以及给器件带来的影响分析第49-50页
    4.2 脉冲IV测试方法第50-51页
    4.3 HEMT器件中Trap的探测以及表征第51-58页
        4.3.1 相同脉宽、不同静态电压下的脉冲电流比较第51-52页
        4.3.2 相同脉宽、不同栅端静态电压下的脉冲电流第52-54页
        4.3.3 固定栅端静态电压、不同脉冲宽度下的脉冲电流第54-57页
        4.3.4 不同栅端静态电压、不同脉冲宽度下的脉冲电流分析第57-58页
    4.4 本章小结第58-59页
第五章 大信号模型的建立第59-78页
    5.1 InP HEMT器件的大信号拓扑第59-67页
        5.1.1 Curtice模型第61-63页
        5.1.2 STATZ模型第63-65页
        5.1.3 Angelov模型第65-67页
        5.1.4 EEHEMT模型第67页
    5.2 大信号模型的建立与验证第67-76页
        5.2.1 肖特基二极管参数提取第67-68页
        5.2.2 直流参数的提取第68-72页
        5.2.3 交流参数的提取第72-74页
        5.2.4 EEHEMT模型的优化与验证第74-76页
    5.3 本章小结第76-78页
第六章 结论第78-80页
    6.1 全文总结第78页
    6.2 展望第78-80页
致谢第80-81页
参考文献第81-86页
作者在攻读硕士期间的研究成果第86-87页

论文共87页,点击 下载论文
上一篇:基于溶液法制备的ZrO2介电层有机薄膜晶体管性能研究
下一篇:超低比导的新型场板LDMOS研究与实现