工件台掩膜台运动控制卡设计及同步方法研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第1章 绪论 | 第8-17页 |
·课题来源背景及意义 | 第8-9页 |
·光刻机相关技术国内外研究现状分析 | 第9-15页 |
·光刻机整体发展现状 | 第9-11页 |
·工件台掩膜台发展现状 | 第11-12页 |
·运动控制卡发展现状 | 第12-14页 |
·同步控制方法发展现状 | 第14-15页 |
·本文的研究内容 | 第15-17页 |
第2章 控制卡整体方案及硬件设计 | 第17-33页 |
·光刻机工件台结构 | 第17-18页 |
·控制卡类型及整体性能要求 | 第18-19页 |
·VME总线介绍 | 第19-20页 |
·控制卡的整体规划 | 第20-22页 |
·控制卡芯片选型及硬件电路设计 | 第22-32页 |
·DSP模块电路设计 | 第22-25页 |
·DSP存储器的扩展 | 第25-26页 |
·控制卡输入输出接口 | 第26-29页 |
·双口RAM | 第29-30页 |
·DSP与VME总线通信接口 | 第30-32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
第3章 同步控制对象模型建立 | 第33-47页 |
·工件台和掩膜台运动机制 | 第33-34页 |
·工件台和掩膜台电机模型 | 第34-37页 |
·直线电机和音圈电机工作原理 | 第34-35页 |
·直线电机和音圈电机静态特性 | 第35-36页 |
·直线电机和音圈电机动态特性 | 第36-37页 |
·直线电机和音圈电机的闭环控制 | 第37-44页 |
·电流环的设计 | 第37-39页 |
·速度环的设计 | 第39-41页 |
·位置环的设计 | 第41-44页 |
·工件台掩膜台动力学模型 | 第44-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第4章 工件台掩膜台同步控制方法 | 第47-60页 |
·光刻机同步控制作用 | 第47页 |
·同步控制方法 | 第47-50页 |
·平行(非耦合)同步控制策略 | 第47-48页 |
·交叉耦合同步控制策略 | 第48-50页 |
·工件台掩膜台协调式同步控制 | 第50-56页 |
·同步控制系统结构 | 第50-52页 |
·控制器设计 | 第52-56页 |
·仿真结果分析 | 第56-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
第5章 同步误差及硅片变形误差分析 | 第60-65页 |
·同步控制误差分析 | 第60-62页 |
·同步误差性能标准 | 第60-61页 |
·同步误差性能比较 | 第61-62页 |
·硅片变形误差分析 | 第62-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
结论 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-71页 |
致谢 | 第71页 |