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基于微机测控网络的扩散/氧化系统的研究与开发

学位论文原创性声明和学位论文版权使用授权书第1-5页
摘要第5-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-19页
   ·我国半导体专用设备制造业的现状与发展目标第10-11页
     ·我国半导体专用设备制造业的现状第10-11页
     ·我国半导体设备业发展总体目标第11页
   ·微机测控技术在半导体装备制造业中的应用第11-12页
   ·扩散/氧化系统概述第12-14页
     ·扩散炉的发展概况第12-13页
     ·卧式扩散炉的基本结构第13-14页
   ·工业以太网技术第14-16页
   ·企业管控一体化第16-17页
   ·本文的研究背景与意义第17-18页
   ·本文的章节安排第18-19页
第2章 扩散/氧化系统的总体设计第19-26页
   ·扩散/氧化工艺介绍第19-22页
     ·氧化工艺及要求第19-20页
     ·扩散工艺及要求第20-22页
   ·扩散/氧化系统的性能要求第22页
   ·系统硬件设计第22-25页
     ·控制量统计第22-23页
     ·工控机及I/O 板卡选型第23-25页
   ·本章小结第25-26页
第3章 扩散/氧化系统炉温控制策略第26-39页
   ·炉温控制概述第26页
   ·数字 PID 控制第26-30页
     ·PID 数字控制器的设计第26-27页
     ·PID 控制算法的改进第27-30页
   ·PID 数字控制器的参数整定第30-34页
     ·常规PID 整定方法第30-31页
     ·智能PID 参数整定方法第31-34页
   ·扩散/氧化系统的炉温控制第34-38页
     ·三段加热式PID 控温第34-37页
     ·工控机与温控仪的通信第37-38页
   ·本章小结第38-39页
第4章 扩散/氧化系统的软件设计第39-59页
   ·系统平台及软件开发工具的选择第39-40页
   ·程序窗体设计第40-41页
   ·VB 对硬件接口的访问第41-45页
     ·动态链接库第41-42页
     ·VB 对数据采集板卡的操作第42-45页
   ·重要功能模块和数据结构第45-58页
     ·串口通信第45-48页
     ·工艺编辑与工艺自动运行第48-51页
     ·手动操作窗体第51-53页
     ·实时数据采集和历史数据记录第53-56页
     ·报警及处理第56-58页
   ·本章小结第58-59页
第5章 基于工业以太网的测控网络第59-69页
   ·监控主机的功能要求第59页
   ·基于工业以太网的测控网络的拓扑结构第59-60页
   ·监控系统的软件设计第60-68页
     ·使用WinSock 控件进行通信第60-61页
     ·监控的实现方法第61-65页
     ·监控系统中的数据库设计第65-68页
   ·本章小结第68-69页
结论第69-71页
参考文献第71-74页
致谢第74-75页
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录第75页

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