基于微机测控网络的扩散/氧化系统的研究与开发
学位论文原创性声明和学位论文版权使用授权书 | 第1-5页 |
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-19页 |
·我国半导体专用设备制造业的现状与发展目标 | 第10-11页 |
·我国半导体专用设备制造业的现状 | 第10-11页 |
·我国半导体设备业发展总体目标 | 第11页 |
·微机测控技术在半导体装备制造业中的应用 | 第11-12页 |
·扩散/氧化系统概述 | 第12-14页 |
·扩散炉的发展概况 | 第12-13页 |
·卧式扩散炉的基本结构 | 第13-14页 |
·工业以太网技术 | 第14-16页 |
·企业管控一体化 | 第16-17页 |
·本文的研究背景与意义 | 第17-18页 |
·本文的章节安排 | 第18-19页 |
第2章 扩散/氧化系统的总体设计 | 第19-26页 |
·扩散/氧化工艺介绍 | 第19-22页 |
·氧化工艺及要求 | 第19-20页 |
·扩散工艺及要求 | 第20-22页 |
·扩散/氧化系统的性能要求 | 第22页 |
·系统硬件设计 | 第22-25页 |
·控制量统计 | 第22-23页 |
·工控机及I/O 板卡选型 | 第23-25页 |
·本章小结 | 第25-26页 |
第3章 扩散/氧化系统炉温控制策略 | 第26-39页 |
·炉温控制概述 | 第26页 |
·数字 PID 控制 | 第26-30页 |
·PID 数字控制器的设计 | 第26-27页 |
·PID 控制算法的改进 | 第27-30页 |
·PID 数字控制器的参数整定 | 第30-34页 |
·常规PID 整定方法 | 第30-31页 |
·智能PID 参数整定方法 | 第31-34页 |
·扩散/氧化系统的炉温控制 | 第34-38页 |
·三段加热式PID 控温 | 第34-37页 |
·工控机与温控仪的通信 | 第37-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
第4章 扩散/氧化系统的软件设计 | 第39-59页 |
·系统平台及软件开发工具的选择 | 第39-40页 |
·程序窗体设计 | 第40-41页 |
·VB 对硬件接口的访问 | 第41-45页 |
·动态链接库 | 第41-42页 |
·VB 对数据采集板卡的操作 | 第42-45页 |
·重要功能模块和数据结构 | 第45-58页 |
·串口通信 | 第45-48页 |
·工艺编辑与工艺自动运行 | 第48-51页 |
·手动操作窗体 | 第51-53页 |
·实时数据采集和历史数据记录 | 第53-56页 |
·报警及处理 | 第56-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第5章 基于工业以太网的测控网络 | 第59-69页 |
·监控主机的功能要求 | 第59页 |
·基于工业以太网的测控网络的拓扑结构 | 第59-60页 |
·监控系统的软件设计 | 第60-68页 |
·使用WinSock 控件进行通信 | 第60-61页 |
·监控的实现方法 | 第61-65页 |
·监控系统中的数据库设计 | 第65-68页 |
·本章小结 | 第68-69页 |
结论 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第75页 |