Mn掺杂Ⅳ族半导体的研究
| 摘要 | 第1-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 引言 | 第12-31页 |
| ·自旋电子学 | 第12-16页 |
| ·自旋电子学的发展历史 | 第12-16页 |
| ·研究的主要领域 | 第16页 |
| ·稀磁半导体 | 第16-23页 |
| ·DMS的分类及特点 | 第16-18页 |
| ·DMS的物理性质 | 第18-20页 |
| ·稀磁半导体应用现状 | 第20-21页 |
| ·Ⅳ族稀磁半导体中磁性起源的几种理论模型 | 第21-23页 |
| ·Mn掺杂Ⅳ族磁性半导体的研究历史及现状 | 第23-29页 |
| ·Ge基磁性半导体研究进展 | 第23-25页 |
| ·Si基磁性半导体研究进展 | 第25-29页 |
| ·本论文研究主要内容 | 第29-31页 |
| 第二章 Si_(1-x)Mn_x样品的制备 | 第31-40页 |
| ·薄膜制备简介 | 第31-34页 |
| ·磁控溅射仪简介 | 第34-38页 |
| ·溅射现象 | 第34-35页 |
| ·溅射镀膜 | 第35-37页 |
| ·磁控溅射的工作原理 | 第37-38页 |
| ·样品的制备 | 第38-39页 |
| ·衬底清洗 | 第38页 |
| ·镀膜程序 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 样品的结构与成分测量 | 第40-49页 |
| ·样品的结构表征 | 第40-46页 |
| ·X射线衍射及其表征结果 | 第40-41页 |
| ·原子力显微镜及其表征结果 | 第41-46页 |
| ·样品的成分鉴定 | 第46-48页 |
| ·扫描电镜 | 第46-48页 |
| ·表征结果 | 第48页 |
| ·本章总结 | 第48-49页 |
| 第四章 样品的性能测量与研究 | 第49-63页 |
| ·磁性测量 | 第49-53页 |
| ·磁性测量介绍 | 第49-51页 |
| ·磁性测量结果与分析 | 第51-53页 |
| ·输运特性的测量与研究 | 第53-57页 |
| ·输运特性测量介绍 | 第53-55页 |
| ·输运特性测量结果与分析 | 第55-57页 |
| ·霍尔效应 | 第57-62页 |
| ·本章总结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第70页 |
