摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
目录 | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
·引言 | 第10-11页 |
·稀磁半导体材料 | 第11-17页 |
·DMSs基本概念 | 第11-12页 |
·DMSs研究进展 | 第12-13页 |
·DMSs的物理机制 | 第13-15页 |
·RKKY理论 | 第13-14页 |
·平均场理论 | 第14页 |
·双交换理论 | 第14页 |
·BMP理论 | 第14-15页 |
·DMSs应用前景 | 第15-17页 |
·ZnO基稀磁半导体材料 | 第17-21页 |
·ZnO的基本性质 | 第17-19页 |
·ZnO基DMSs研究进展 | 第19-21页 |
·Mn掺杂ZnO | 第19-20页 |
·Co掺杂ZnO | 第20页 |
·Fe掺杂ZnO | 第20-21页 |
·ZnO基DMSs存在的问题 | 第21页 |
·非极性ZnO薄膜 | 第21-22页 |
·非极性ZnO的概念 | 第21-22页 |
·非极性ZnO获得途径 | 第22页 |
·ZnO基薄膜的制备方法与技术 | 第22-25页 |
·课题意义与研究内容 | 第25-26页 |
第二章 样品制备与表征手段 | 第26-32页 |
·Fe、Fe-Ga共掺杂ZnO基稀磁半导体样品制备 | 第26-28页 |
·实验设备 | 第26页 |
·样品制备过程 | 第26-28页 |
·非极性ZnO薄膜样品制备 | 第28-30页 |
·实验设备及原理 | 第28-29页 |
·样品制备过程 | 第29-30页 |
·样品表征手段 | 第30-32页 |
第三章 Fe掺杂ZnO基稀磁半导体 | 第32-47页 |
·Ar/O_2气氛下Zn_(1-x)Fe_xO(x=0.02)薄膜性能的研究 | 第32-34页 |
·退火对Zn_(1-x)Fe_xO(x=0.02)薄膜形貌的影响 | 第32-33页 |
·退火对Zn_(1-x)Fe_xO(x=0.02)薄膜磁性的影响 | 第33-34页 |
·纯Ar条件下Zn_(1-x)Fe_xO薄膜的结构与性能研究 | 第34-45页 |
·衬底温度与溅射功率的影响 | 第35-37页 |
·溅射压强的影响 | 第37-38页 |
·Fe掺杂浓度对薄膜结构与形貌的影响 | 第38-40页 |
·成分分析 | 第40-44页 |
·Fe掺杂浓度对薄膜电学性能与磁性性能的影响 | 第44-45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
第四章 Fe-Ga共掺杂ZnO基稀磁半导体 | 第47-56页 |
·Ga掺杂对Zn_(1-x)Fe_xO薄膜结构与形貌的影响 | 第47-48页 |
·Ga掺杂Zn_(1-x)Fe_xO薄膜的制备 | 第47页 |
·Ga掺杂对Zn_(1-x)Fe_xO薄膜结构与形貌的影响 | 第47-48页 |
·溅射压强对Ga掺杂的Zn_(1-x)Fe_xO薄膜的影响 | 第48-53页 |
·结构与形貌分析 | 第49-51页 |
·成分分析 | 第51-53页 |
·Ga掺杂对Zn_(1-x)Fe_xO薄膜电学以及磁学性能的影响 | 第53-55页 |
·Ga掺杂对薄膜电学性能影响 | 第53-54页 |
·Ga掺杂对薄膜磁学性能影响 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第五章 非极性ZnO薄膜 | 第56-70页 |
·ZnCoO薄膜的生长取向及其性能研究 | 第56-62页 |
·衬底对薄膜生长取向的影响 | 第57-58页 |
·薄膜表明形貌分析 | 第58-59页 |
·薄膜光学性能分析 | 第59-60页 |
·薄膜电学与磁学性能分析 | 第60-61页 |
·小结 | 第61-62页 |
·Mn掺杂ZnO生长取向与性能的研究 | 第62-70页 |
·Zn(Mn,Li)O薄膜的生长取向及其性能研究 | 第62-66页 |
·结构与形貌分析 | 第62-64页 |
·光学性能分析 | 第64-65页 |
·磁性性能分析 | 第65-66页 |
·Zn(Mn,Na)O薄膜的生长取向及其性能研究 | 第66-69页 |
·结构与形貌分析 | 第66-67页 |
·光学性能分析 | 第67-69页 |
·磁学性能分析 | 第69页 |
·小结 | 第69-70页 |
第六章 结论与展望 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
个人简历 | 第81-82页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第82页 |