| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| ·宏孔硅简介 | 第7页 |
| ·宏孔硅的国内外研究概况 | 第7-9页 |
| ·宏孔硅的应用 | 第9-12页 |
| ·本论文研究的内容、目的及意义 | 第12-14页 |
| 第二章 宏孔硅光电化学腐蚀中电流与孔径间的关系研究 | 第14-23页 |
| ·硅的电化学溶解机理 | 第14-15页 |
| ·n型宏孔硅形成机理 | 第15-17页 |
| ·腐蚀电流与孔径之间的关系 | 第17-18页 |
| ·临界电流密度的影响因素 | 第18-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 N型宏孔硅光电化学腐蚀的电流自动控制系统设计 | 第23-36页 |
| ·整体电路设计 | 第23-25页 |
| ·电流控制模块的设计 | 第25-28页 |
| ·温度控制模块的设计 | 第28-31页 |
| ·搅拌控制模块的设计 | 第31-34页 |
| ·液晶显示电路的设计 | 第34-36页 |
| 第四章 基于LabVIEW的电流自动控制系统软件设计 | 第36-45页 |
| ·LabVIEW软件整体框架设计 | 第36-37页 |
| ·串口通信模块设计 | 第37-39页 |
| ·数据处理模块设计 | 第39-43页 |
| ·操作界面及程序框图的设计 | 第43-45页 |
| 第五章 电流自动控制系统的调试与实验结果 | 第45-55页 |
| ·电路性能测试 | 第45-49页 |
| ·系统调试与实验结果 | 第49-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 攻读硕士期间发表的文章及申请的专利情况 | 第60-61页 |
| 附件一 整体电路图 | 第61-62页 |
| 附件二 程序 | 第62-70页 |
