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复合栅多阶梯场极板LDMOS电学特性的研究

摘要第1-7页
Abstract第7-10页
目录第10-17页
第1章 绪言第17-41页
   ·功率集成电路第17-18页
   ·功率器件第18-19页
   ·LDMOS概述第19-23页
     ·功率LDMOS的应用第20-21页
     ·LDMOS的特点与结构第21-22页
     ·LDMOS的研究现状第22-23页
   ·应用于LDMOS结构中的新技术第23-35页
     ·栅工程第24-27页
     ·沟道工程和改进的RESURF技术第27-31页
     ·其它终端技术第31-33页
     ·SOI和P埋层第33-35页
   ·本课题的研究意义、任务和所做的工作第35-41页
第2章 复合栅LDMOS器件沟道电势分布及阈值电压模型第41-59页
   ·复合栅LDMOS的结构与沟道电势分布模型第42-49页
     ·工艺实现第42-43页
     ·复合栅LDMOS的结构第43-45页
     ·复合栅LDMOS沟道电势分布模型第45-49页
   ·复合栅LDMOS阈值电压模型第49-52页
     ·表面电势分析与阈值电压定义第49-51页
     ·复合栅LDMOS阈值电压的建模第51-52页
   ·器件模拟与模型验证第52-57页
   ·本章小结第57-59页
第3章 复合栅LDMOS沟道电流解析模型第59-83页
   ·基于扩展的漂移—扩散方程的复合栅LDMOS电流方程第60-66页
     ·复合栅LDMOS沟道区的电荷平衡第60-61页
     ·复合栅LDMOS电流特性第61-64页
     ·复合栅LDMOS沟道导通态表面电势分布第64-66页
   ·模型计算和分析第66-71页
   ·载流子速度过冲效应第71-81页
     ·源端的弱强阶梯电场近似模型第74-77页
     ·复合双栅界面处的速度过冲模型第77-81页
   ·本章小结第81-83页
第4章 基于电荷分享的RESURF原理和拐角电场分析第83-111页
   ·Single-RESURF原理第83-100页
     ·Single-RESURF结构的电荷平衡第84-85页
     ·基于电荷分享的Single-RESURF原理第85-87页
     ·拐角电场的研究第87-93页
     ·电荷分享因子和横向有效空间电荷第93-96页
     ·横向有效空间电荷与击穿电压第96-99页
     ·参数η(BV_(latj))和γ(BV_(latj))分析第99-100页
   ·Double-RESURF原理第100-105页
     ·Double-RESURF结构的电荷平衡第100-102页
     ·基于电荷分享的Double-RESURF原理第102-105页
   ·计算结果与分析第105-110页
   ·本章小结第110-111页
第5章 多阶梯场极板RESURF LDMOS漂移区表面电场解析模型第111-137页
   ·几种结构的漂移区表面电场建模第112-127页
     ·Double-RESURF LDMOS结构第112-118页
     ·多阶梯场极板参数的优化第118-125页
     ·多阶梯场极板Double-RESURF LDMOS结构第125-127页
   ·计算结果与讨论第127-136页
   ·本章小结第136-137页
第6章 总结与展望第137-143页
   ·本文研究的主要内容和创新点第137-139页
   ·进一步的研究工作第139-143页
参考文献第143-153页
攻读博士学位期间发表的论文第153-154页
攻读博士学位期间参加的科研项目第154-155页
致谢第155页

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