摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-14页 |
·MEMS 简介 | 第8-10页 |
·MEMS 加工技术 | 第10-12页 |
·表面微机械加工技术 | 第10-11页 |
·体微机械加工技术 | 第11-12页 |
·LIGA 技术 | 第12页 |
·MEMS CAD | 第12-13页 |
·课题研究的背景与意义 | 第13页 |
·论文的主要工作 | 第13页 |
·本章小结 | 第13-14页 |
第二章 MEMS加工工艺中的沉积技术 | 第14-29页 |
·物理气相沉积(PVD) | 第14-15页 |
·真空蒸镀 | 第15页 |
·溅射镀膜(Sputtering) | 第15页 |
·离子镀 | 第15页 |
·化学气相沉积(CVD) | 第15-20页 |
·常压沉积(APCVD) | 第16-17页 |
·金属有机化合物化学气相沉积(Metal Organic Compound Chemical Vapor Deposition, MOCVD) | 第17页 |
·等离子增强化学气相沉积(PECVD) | 第17-18页 |
·低压化学气相沉积(LPCVD) | 第18-20页 |
·LPCVD 模型 | 第20-25页 |
·一维平面沉积速率模型 | 第21-22页 |
·二维通用模型 | 第22-23页 |
·二参量模型 | 第23-24页 |
·三维模型 | 第24-25页 |
·算法研究 | 第25-28页 |
·线算法 | 第25-26页 |
·Level Set Method(水平集方法) | 第26页 |
·元胞算法 | 第26-28页 |
·一维元胞自动机原理 | 第26-28页 |
·二维元胞自动机原理 | 第28页 |
·本章小结 | 第28-29页 |
第三章 改进模型与算法 | 第29-46页 |
·一维模型 | 第29-34页 |
·二维模型提出 | 第34-39页 |
·算法改进 | 第39-44页 |
·线算法 | 第39-42页 |
·法向角计算 | 第40-41页 |
·θ_1 、θ_2 角的计算 | 第41-42页 |
·Von Neumann 算法 | 第42-44页 |
·法向角计算 | 第43-44页 |
·θ_1 、θ_2 角的计算 | 第44页 |
·本章小结 | 第44-46页 |
第四章 软件模拟结果和实验结果的对比分析 | 第46-54页 |
·模拟软件 | 第46-47页 |
·线算法模拟 | 第47-48页 |
·元胞算法模拟 | 第48-49页 |
·模拟结果和实验结果的对比 | 第49-51页 |
·集成工艺 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-54页 |
第五章 总结和展望 | 第54-56页 |
总结 | 第54页 |
展望 | 第54-56页 |
参考文献 | 第56-60页 |
作者简介 | 第60页 |
攻读硕士学位期间发表论文 | 第60页 |