| 目录 | 第1-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-16页 |
| ·引言 | 第6-8页 |
| ·镍硅化物工艺介绍 | 第8-10页 |
| ·镍合金工艺的研究和对NiSi功函数调制研究的进展 | 第10-14页 |
| ·本论文的研究计划 | 第14-16页 |
| 第二章 镍铂合金硅化反应及其与Si肖特基接触特性研究 | 第16-33页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·样品制备工艺以及样品表征 | 第16-23页 |
| ·样品制备 | 第16-18页 |
| ·薄层电阻测量 | 第18-20页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第20-21页 |
| ·俄歇电子能谱(AES) | 第21-22页 |
| ·电流-电压扫描(I-V) | 第22-23页 |
| ·镍铂合金硅化反应研究 | 第23-27页 |
| ·镍铂合金硅化物与Si肖特基接触特性的研究 | 第27-32页 |
| ·肖特基势垒分布函数的提出 | 第27-29页 |
| ·肖特基势垒的电学分析 | 第29-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 镍铝合金硅化反应及其与Si肖特基接触特性研究 | 第33-45页 |
| ·已经开展的镍铝合金硅化物研究 | 第33页 |
| ·镍铝合金硅化反应研究 | 第33-42页 |
| ·镍铝合金硅化物与Si肖特基接触特性的研究 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 镍稀土(钇)合金硅化反应及其与Si肖特基接触特性研究 | 第45-53页 |
| ·镍钇合金硅化反应研究 | 第45-50页 |
| ·镍钇合金硅化物与Si肖特基接触特性的研究 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
| 作者在研究生期间发表论文目录 | 第61-62页 |
