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基于DMD数字掩模光刻的液晶光控取向技术研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第13-27页
    1.1 课题研究背景及意义第13-14页
    1.2 液晶、液晶聚合物及液晶器件第14-18页
    1.3 光取向技术第18-23页
        1.3.1 光取向机制第19-21页
        1.3.2 光取向结构第21-23页
    1.4 传统光刻技术第23-25页
    1.5 本文主要研究内容与基本框架第25-27页
第2章 DMD系统与光刻衍射原理第27-41页
    2.1 激光干涉理论第27-30页
    2.2 二次曝光的基本理论与应用第30-32页
    2.3 DMD系统介绍第32-41页
        2.3.1 DMD系统光源选择第32-33页
        2.3.2 光路传递第33-34页
        2.3.3 图形产生第34-37页
        2.3.4 物镜缩微第37页
        2.3.5 CCD即时观测第37-39页
        2.3.6 DMD系统结构与功能第39-41页
第3章 DMD光刻实现分辨率最小化第41-50页
    3.1 液晶光刻实验前期操作流程第41-42页
    3.2 实现DMD2X、5X、10X物镜光刻第42-48页
    3.3 小结第48-50页
第4章 DMD系统制作复杂液晶器件结构第50-59页
    4.1 棋盘结构液晶器件光刻实验制作第50-52页
    4.2 消偏器理论及制作第52-57页
        4.2.1 光场消偏技术第52-53页
        4.2.2 液晶空域消偏器制作与测试第53-57页
    4.3 小结第57-59页
结论第59-61页
参考文献第61-67页
致谢第67页

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