基于DMD数字掩模光刻的液晶光控取向技术研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第13-14页 |
| 1.2 液晶、液晶聚合物及液晶器件 | 第14-18页 |
| 1.3 光取向技术 | 第18-23页 |
| 1.3.1 光取向机制 | 第19-21页 |
| 1.3.2 光取向结构 | 第21-23页 |
| 1.4 传统光刻技术 | 第23-25页 |
| 1.5 本文主要研究内容与基本框架 | 第25-27页 |
| 第2章 DMD系统与光刻衍射原理 | 第27-41页 |
| 2.1 激光干涉理论 | 第27-30页 |
| 2.2 二次曝光的基本理论与应用 | 第30-32页 |
| 2.3 DMD系统介绍 | 第32-41页 |
| 2.3.1 DMD系统光源选择 | 第32-33页 |
| 2.3.2 光路传递 | 第33-34页 |
| 2.3.3 图形产生 | 第34-37页 |
| 2.3.4 物镜缩微 | 第37页 |
| 2.3.5 CCD即时观测 | 第37-39页 |
| 2.3.6 DMD系统结构与功能 | 第39-41页 |
| 第3章 DMD光刻实现分辨率最小化 | 第41-50页 |
| 3.1 液晶光刻实验前期操作流程 | 第41-42页 |
| 3.2 实现DMD2X、5X、10X物镜光刻 | 第42-48页 |
| 3.3 小结 | 第48-50页 |
| 第4章 DMD系统制作复杂液晶器件结构 | 第50-59页 |
| 4.1 棋盘结构液晶器件光刻实验制作 | 第50-52页 |
| 4.2 消偏器理论及制作 | 第52-57页 |
| 4.2.1 光场消偏技术 | 第52-53页 |
| 4.2.2 液晶空域消偏器制作与测试 | 第53-57页 |
| 4.3 小结 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
