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器件结构应力模拟方法及微带隔离器力学可靠性研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-16页
    1.1 研究背景第11-12页
    1.2 国内外研究现状第12-14页
    1.3 论文的主要研究内容及安排第14-16页
第二章 有限元模拟相关理论及方法第16-24页
    2.1 ANSYS软件简介第16-17页
    2.2 仿真流程及关键步骤第17-20页
        2.2.1 材料模型建立第17-20页
            2.2.1.1 塑性特性第18页
            2.2.1.2 蠕变特性第18-20页
        2.2.2 网格模型划分第20页
        2.2.3 边界约束条件加载和负载加载第20页
    2.3 焊锡可靠性分析方法第20-22页
    2.4 基于ANSYS的器件结构应力模拟方法第22-24页
第三章 微带隔离器的温度冲击模拟方法及力学可靠性研究第24-48页
    3.1 建立ANSYS仿真模型第24-28页
        3.1.1 微带隔离器物理结构图及各部件材料模型第24-25页
        3.1.2 实体模型建立第25-26页
        3.1.3 网格模型建立第26-28页
            3.1.3.1 网格单元第26-27页
            3.1.3.2 网格划分第27-28页
    3.2 仿真模型的选择第28-30页
        3.2.1 三维 1/2 模型和三维完整模型第28-29页
        3.2.2 三维 1/2 模型和二维模型第29-30页
    3.3 温度冲击负载和边界约束条件的加载方法研究第30-33页
        3.3.1 温度冲击负载加载方法研究第30-32页
        3.3.2 边界约束条件加载方法研究第32-33页
    3.4 仿真误差的评估第33-35页
        3.4.1 网格质量检查第33-35页
        3.4.2 仿真误差计算第35页
    3.5 微带隔离器100个温度冲击仿真结果分析讨论第35-48页
        3.5.1 微带隔离器在温度冲击下的应力变化趋势及应力分布第36-42页
            3.5.1.1 微带隔离器在100个温度冲击下的应力变化趋势第36-38页
            3.5.1.2 微带隔离器在温度冲击下的最大应力分布第38-42页
        3.5.2 微带隔离器中铁氧体基片上的应力分布第42-46页
            3.5.2.1 铁氧体基片在100个温度冲击中的应力分布第42-44页
            3.5.2.2 铁氧体基片上应力极值区应力分析第44-46页
        3.5.3 微带隔离器的温度冲击仿真结果与热应力可靠性分析第46-48页
第四章 空洞对微带隔离器在温度冲击下可靠性的影响第48-60页
    4.1 空洞的形成机理及ANSYS建模第48-50页
        4.1.1 空洞的形成机理第48页
        4.1.2 空洞的Ansys建模方法第48-50页
    4.2 空洞对微带隔离器可靠性的影响分析第50-60页
        4.2.1 空洞对焊锡疲劳特性的影响第51-56页
        4.2.2 空洞对铁氧体基片可靠性的影响第56-60页
第五章 器件结构应力模拟方法及层叠结构体初始应力加载方法第60-71页
    5.1 基于ANSYS软件的SI/SIO_2/SI_3N_4器件结构残余应力模拟第60-67页
        5.1.1 Si/SiO_2/Si_3N_4结构的残余应力模拟方法分析第60-63页
        5.1.2 Si/SiO_2/Si_3N_4薄膜结构残余应力模拟第63-67页
    5.2 基于ANSYS软件的层叠结构体初始应力加载方法第67-71页
        5.2.1 层叠结构体的初始应力加载方法步骤第67-68页
        5.2.2 初始应力加载方法的仿真结果第68-71页
第六章 结论第71-73页
致谢第73-74页
参考文献第74-78页
攻读硕士学位期间取得的成果第78-79页

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