SnO和Mn-SnO薄膜制备及其物性研究
| 摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| 第一节 研究背景 | 第12-16页 |
| 1.1.1 自旋电子学研究进展 | 第12-13页 |
| 1.1.2 磁性半导体的研究进展 | 第13-15页 |
| 1.1.3 研究热点及现象 | 第15-16页 |
| 第二节 理论模型 | 第16-17页 |
| 第三节 论文选题思路及研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 样品的制备技术与测试分析仪器 | 第19-33页 |
| 第一节 脉冲激光沉积技术(PLD) | 第19-27页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积的原理 | 第20-22页 |
| 2.1.2 脉冲激光沉积的优缺点 | 第22-24页 |
| 2.1.3 简介实验室激光脉冲沉积系统 | 第24-27页 |
| 第二节 薄膜分析测试技术 | 第27-33页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第27-29页 |
| 2.2.2 交变梯度磁强计(AGM) | 第29-30页 |
| 2.2.3 双光束紫外可见分光光度计 | 第30-32页 |
| 2.2.4 2400型通用型源表 | 第32-33页 |
| 第三章 SnO薄膜制备及其物性研究 | 第33-40页 |
| 第一节 SnO的薄膜生长 | 第33-36页 |
| 3.1.1 靶材制备 | 第33-34页 |
| 3.1.2 薄膜的制备 | 第34-36页 |
| 第二节 SnO薄膜的阻变测试 | 第36-39页 |
| 第三节 小结 | 第39-40页 |
| 第四章 Mn-SnO薄膜制备及其物性表征 | 第40-46页 |
| 第一节 Mn掺SnO薄膜制备 | 第40-41页 |
| 第二节 Mn掺SnO的磁性测量 | 第41-44页 |
| 第三节 Mn-SnO薄膜的光学测量 | 第44-45页 |
| 第四节 小结 | 第45-46页 |
| 第五章 总结与展望 | 第46-48页 |
| 致谢 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第53页 |
