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集成电路等离子体溅射磁控管旋转轨迹控制系统

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第11-17页
    1.1 背景和意义第11-12页
    1.2 磁控溅射源设计的历史、现在及未来发展情况分析第12-16页
        1.2.1 磁控溅射源设计的历史情况分析第12-13页
        1.2.2 现在发展情况分析第13-15页
        1.2.3 未来发展情况分析第15-16页
    1.3 内容及结构安排第16-17页
第二章 轨迹方程及插补原理第17-29页
    2.1 轨迹方程的概念第17-19页
        2.1.1 基于轨迹方程的数学模型第18-19页
    2.2 插补算法的概念第19-28页
        2.2.1 逐点比较插补法第19-23页
        2.2.2 数字积分插补法第23-26页
        2.2.3 数据采样插补法第26-28页
    2.3 本章小结第28-29页
第三章 控制系统设计第29-47页
    3.1 整机系统介绍第29-30页
    3.2 系统结构设计第30-35页
        3.2.1 硬件结构部分设计第30-33页
        3.2.2 电气硬线连接设计第33-35页
    3.3 控制程序设计第35-46页
        3.3.1 软件架构第35-36页
        3.3.2 PLC程序编写语言及环境第36-37页
        3.3.3 原点搜索第37-39页
        3.3.4 系统停止操作第39-40页
        3.3.5 轨迹扫描及插补过程第40-44页
        3.3.6 报警处理第44-46页
    3.4 本章小结第46-47页
第四章 实验设计及实验结果第47-57页
    4.1 实验系统第47-49页
        4.1.1 实验系统的准备工作第47页
        4.1.2 实验系统的机械平台第47-49页
    4.2 仿真结果分析第49-53页
    4.3 应用结果的评价第53-55页
    4.4 本章小结第55-57页
第五章 结论第57-59页
参考文献第59-61页
致谢第61-63页
导师和作者简介第63-65页
附件第65-66页

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