| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-32页 |
| ·ZnO 的基本物理性质及研究背景 | 第9-12页 |
| ·ZnO 的基本物理性质 | 第9-10页 |
| ·ZnO 的广阔应用前景 | 第10-12页 |
| ·氧化物中的自发极化现象和极性表面 | 第12-18页 |
| ·极性表面的不稳定性及退极化机制 | 第13-15页 |
| ·ZnO 中的自发极化现象 | 第15-18页 |
| ·钙钛矿氧化物简介 | 第18-22页 |
| ·SrTiO3性质简介 | 第19-20页 |
| ·庞磁阻效应和 La1-xAxMnO3 | 第20-22页 |
| ·半导体材料中的接触现象 | 第22-30页 |
| ·金属半导体接触 | 第23-26页 |
| ·p-n 异型异质半导体接触 | 第26-28页 |
| ·p-n 同型异质半导体接触 | 第28-30页 |
| ·本论文工作介绍 | 第30-32页 |
| 第2章 实验方法介绍 | 第32-41页 |
| ·脉冲激光沉积方法简介 | 第32-34页 |
| ·磁控溅射方法简介 | 第34-35页 |
| ·X 射线衍射方法（XRD） | 第35-36页 |
| ·薄膜电学性质测量方法 | 第36-41页 |
| ·四极法测量原理 | 第36-37页 |
| ·van der Pauw 方法简介 | 第37-41页 |
| 第3章 极性对氧化锌薄膜性质的影响 | 第41-56页 |
| ·薄膜生长 | 第41-42页 |
| ·靶材制备 | 第41页 |
| ·薄膜生长条件 | 第41-42页 |
| ·薄膜表面形貌和结构 | 第42-48页 |
| ·薄膜的电学性质 | 第48-54页 |
| ·小结 | 第54-56页 |
| 第4章 ZnO 与 NSTO 以及 LSMO 、LCMO 异质结特性研究 | 第56-69页 |
| ·极性对 ZnO/NSTO 异质结特性的影响 | 第56-61页 |
| ·ZnO/NSTO 异质结的制备 | 第56-57页 |
| ·ZnO/NSTO 异质结伏安特性研究 | 第57-61页 |
| ·ZnO 与 p 型材料构成的异质结 | 第61-65页 |
| ·ZnO/LSMO 异质结 | 第62-63页 |
| ·ZnO/LCMO 异质结 | 第63-65页 |
| ·ZnO/LCMO/NSTO 三层异质结构 | 第65-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第5章 LCMO 与 ZnO、NSTO 异质结磁阻特性研究 | 第69-81页 |
| ·磁电阻效应简介 | 第69-74页 |
| ·庞磁阻效应（CMR） | 第70-71页 |
| ·异质结中的磁电阻效应 | 第71-74页 |
| ·磁阻测量设备和方法简介 | 第74页 |
| ·ZnO/LCMO/NSTO 异质结中的磁阻现象 | 第74-76页 |
| ·LCMO/NSTO 异质结的磁阻 | 第76-80页 |
| ·LCMO/NSTO(001)异质结 | 第77-78页 |
| ·LCMO/NSTO(110)异质结 | 第78-80页 |
| ·LCMO/NSTO(001)与 LCMO/NSTO(110)异质结磁阻比较 | 第80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 第6章 结论和展望 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-89页 |
| 致谢 | 第89-91页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第91页 |
