微纳压印关键技术研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-28页 |
| ·微压印技术 | 第13-17页 |
| ·微复制的意义 | 第13-14页 |
| ·微复制相关技术 | 第14-15页 |
| ·微压印工艺及其应用 | 第15-16页 |
| ·基于聚合物的微系统 | 第16-17页 |
| ·纳米压印技术 | 第17-24页 |
| ·纳米压印的原理及发展历史 | 第17-19页 |
| ·纳米压印的工艺 | 第19-22页 |
| ·纳米压印的应用举例 | 第22-24页 |
| ·软刻蚀技术 | 第24-26页 |
| ·本文研究意义及主要内容 | 第26-28页 |
| 第二章 微米压印 | 第28-47页 |
| ·聚合物流变机理 | 第28-31页 |
| ·压印成型仿真研究 | 第31-37页 |
| ·有限元分析简介 | 第31-32页 |
| ·DEFORM 软件模拟热压过程 | 第32-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-37页 |
| ·微米压印工艺及设备 | 第37-38页 |
| ·适于微纳米压印的新材料——PETG | 第38-39页 |
| ·微压印结果及分析 | 第39-46页 |
| ·硅模具和镍模具制备 | 第39-40页 |
| ·硅模具和镍模具微压印PMMA、PC | 第40-42页 |
| ·不同线宽和图形的合格率分析 | 第42页 |
| ·线条镍模具的微米压印 | 第42-44页 |
| ·对可压印材料PETG 的研究 | 第44-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 第三章 软刻蚀印章制备研究 | 第47-56页 |
| ·旋涂法制备PDMS 印章 | 第47-50页 |
| ·旋涂法制备PDMS 印章的原理和工艺流程 | 第47页 |
| ·旋涂法制备PDMS 印章的具体实例 | 第47-48页 |
| ·旋涂法制备PDMS 印章的实验结果 | 第48-50页 |
| ·热压法大规模制备PDMS 印章的新方法 | 第50-54页 |
| ·热压法大规模制备PDMS 印章的工艺路线 | 第50页 |
| ·热压法大规模制备PDMS 印章的具体实例 | 第50-51页 |
| ·热压法大规模制备PDMS 印章的实验结果与讨论 | 第51-54页 |
| ·PDMS 印章中的缺陷分析 | 第54-55页 |
| ·空孔 | 第54-55页 |
| ·裂纹 | 第55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 第四章 纳米压印工艺原理及印章制备新方法 | 第56-67页 |
| ·纳米压印工艺及原理 | 第56-58页 |
| ·纳米压印工艺流程及原理 | 第56-57页 |
| ·常规印章制备方法 | 第57页 |
| ·聚合物制备 | 第57-58页 |
| ·广义纳米压印方法的比较 | 第58页 |
| ·FIB 制备微纳米印章的新途经 | 第58-63页 |
| ·聚焦离子束系统的工作原理和构成 | 第58-59页 |
| ·聚焦离子束系统的应用 | 第59-60页 |
| ·用聚焦离子束技术进行纳米压印印章的制备 | 第60-63页 |
| ·全息曝光制备微纳米印章 | 第63-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 第五章 纳米压印相关理论、模拟和工艺优化研究 | 第67-76页 |
| ·纳米压印填充时间的理论计算 | 第67-68页 |
| ·有效压强的理论分析和提高印章寿命的新方法 | 第68-69页 |
| ·分子动力学选择印章抗粘连层材料的理论计算 | 第69-75页 |
| ·分子动力学方法与原理 | 第69-73页 |
| ·分子动力学选择压印中印章抗粘连层物质 | 第73-75页 |
| ·小结 | 第75-76页 |
| 第六章 纳米压印实验研究 | 第76-107页 |
| ·纳米压印印章抗粘连层的制备 | 第76-84页 |
| ·干法抗粘 | 第76-78页 |
| ·湿法抗粘 | 第78-81页 |
| ·两种方法对比 | 第81-84页 |
| ·纳米压印过程参数曲线 | 第84-86页 |
| ·铝线条印章压印MR-I 9020 | 第86-89页 |
| ·mr-I 9020 胶介绍 | 第86页 |
| ·铝线条印章压印mr-I 9020 | 第86-88页 |
| ·纳米压印缺陷分析 | 第88-89页 |
| ·正交法对纳米压印工艺的优化 | 第89-95页 |
| ·正交法的意义与原理 | 第89-90页 |
| ·热压印工艺中正交法的因子和水平 | 第90-92页 |
| ·正交法对工艺的优化研究 | 第92-95页 |
| ·石英模具室温压印HYBRANE | 第95-98页 |
| ·Hybrane 胶介绍 | 第95-96页 |
| ·Hybrane 胶的配置 | 第96页 |
| ·石英印章压印Hybrane | 第96-98页 |
| ·复杂图案硅印章压印SU-8 | 第98-103页 |
| ·硅印章制备 | 第98页 |
| ·印章形貌 | 第98页 |
| ·SU-8 胶的旋涂 | 第98页 |
| ·硅印章压印SU-8 | 第98-103页 |
| ·后续转移图案 | 第103-106页 |
| ·残留胶厚度的计算, | 第103页 |
| ·O_2 刻蚀速率计算 | 第103-104页 |
| ·SF_6 刻蚀速率对比计算 | 第104页 |
| ·双气体连续刻蚀法进行图案转移 | 第104-105页 |
| ·单一气体刻蚀法进行图案转移 | 第105-106页 |
| ·小结 | 第106-107页 |
| 第七章 微纳压印在光学和生物学领域的初步应用 | 第107-129页 |
| ·应用于波分复用技术光栅的设计及模具制作 | 第107-111页 |
| ·光栅设计的理论 | 第107-109页 |
| ·波分复用光栅的优化和加工方法 | 第109-111页 |
| ·光栅的设计参数 | 第111-113页 |
| ·光栅母板的制备 | 第113-117页 |
| ·全息实验结果 | 第113-115页 |
| ·干法刻蚀实验结果 | 第115-117页 |
| ·采用微纳米压印技术复制微纳光栅 | 第117-121页 |
| ·采用PETG 材料压印微结构光栅 | 第117-118页 |
| ·采用旋涂和MMS 技术制备PDMS 光栅 | 第118-121页 |
| ·生物实验的意义 | 第121-122页 |
| ·生物加工材料的选择 | 第122页 |
| ·微纳米压印技术在蛋白质实验中的应用 | 第122-124页 |
| ·微纳米微结构对不同细胞生长的影响 | 第124-128页 |
| ·成骨细胞 | 第124-126页 |
| ·神经细胞 | 第126页 |
| ·血管平滑肌细胞 | 第126-128页 |
| ·小结 | 第128-129页 |
| 第八章 全文总结与展望 | 第129-133页 |
| ·论文研究工作总结 | 第129-131页 |
| ·论文创新点小结 | 第131页 |
| ·未来工作展望 | 第131-133页 |
| 参考文献 | 第133-144页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文和专利 | 第144-146页 |
| 致谢 | 第146页 |
