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应用于OPC的多边形匹配比较研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-15页
   ·集成电路的发展状况第7-9页
   ·集成电路的设计技术第9-11页
   ·集成电路的制造工艺第11-12页
   ·集成电路的可制造性设计第12-13页
   ·本文完成的工作及组织结构第13-15页
第二章 集成电路制造流程及工艺第15-22页
   ·光刻工艺第15-16页
   ·分辨率增强技术(RET)第16-19页
   ·光学近校正(OPC)第19-20页
   ·光学邻近校正的验证第20-22页
第三章 POST-OPC平滑修正技术第22-29页
   ·研究背景第22-23页
   ·波纹效应第23-24页
   ·一种新的Post-OPC修正方法──平滑修正技术第24-25页
   ·设计流程第25-26页
   ·设计软件环境第26-29页
第四章 多边形匹配比较算法的提出第29-32页
   ·算法研究的对象第30页
   ·算法研究的目标第30-31页
   ·算法研究的应用第31-32页
第五章 多边形匹配比较算法步骤第32-45页
   ·单个多边形对的匹配和比较第32-41页
     ·算法设计流程图第33-34页
     ·起点的匹配第34-36页
       ·起点的匹配条件第34-35页
       ·起点匹配模糊算法第35-36页
     ·点的遍历及段偏移量比较第36-37页
     ·进入下一个参考点的判断第37-38页
     ·角段和边段创建法第38-40页
     ·段始点选择第40-41页
   ·两个版图之间的多边形匹配第41-45页
     ·重心排序第42页
     ·边界重叠判定第42-43页
     ·重叠面积筛选第43-45页
第六章 算法实现及实验结果第45-54页
   ·编码方式第45-46页
   ·数据结构第46-47页
   ·程序实现第47-48页
   ·实验结果第48-53页
     ·单个多边形对的匹配比较实验第49-52页
     ·版图中多边形的匹配比较实验第52-53页
   ·算法复杂度分析第53-54页
第七章 总结与展望第54-56页
参考文献第56-58页
致谢第58页

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