| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-35页 |
| 1.1 辐射跃迁与有机小分子荧光 | 第9-16页 |
| 1.1.1 光致发光 | 第9-11页 |
| 1.1.2 荧光光谱 | 第11-12页 |
| 1.1.3 荧光的寿命和量子产率 | 第12-13页 |
| 1.1.4 有机分子结构与荧光光谱性质的关系 | 第13-15页 |
| 1.1.5 溶剂极性对含氮杂环荧光的影响 | 第15-16页 |
| 1.2 荧光传感器（Fluorescent sensor） | 第16-22页 |
| 1.2.1 荧光传感器与荧光分析法 | 第16页 |
| 1.2.2 荧光传感器结构 | 第16-18页 |
| 1.2.3 荧光传感器工作机理 | 第18-22页 |
| 1.3 联氨及氟离子荧光传感器研究进展 | 第22-31页 |
| 1.3.1 联氨传感器研究进展 | 第22-26页 |
| 1.3.2 氟离子传感器研究进展 | 第26-31页 |
| 1.4 研究思路及主要研究内容 | 第31-35页 |
| 1.4.1 问题的提出 | 第31-32页 |
| 1.4.2 研究思路 | 第32-33页 |
| 1.4.3 工作内容 | 第33-35页 |
| 第二章 实验表征与量化计算 | 第35-38页 |
| 2.1 实验材料 | 第35页 |
| 2.2 化合物结构表征 | 第35-36页 |
| 2.3 光谱分析 | 第36-37页 |
| 2.3.1 母液溶液配制 | 第36页 |
| 2.3.2 缓冲溶液的配制 | 第36页 |
| 2.3.3 紫外吸收光谱的测定 | 第36页 |
| 2.3.4 荧光光谱的测定 | 第36页 |
| 2.3.5 荧光量子产率的测定 | 第36-37页 |
| 2.4 量化计算 | 第37-38页 |
| 2.4.1 分子基态量化计算条件 | 第37页 |
| 2.4.2 分子光谱性质计算条件 | 第37-38页 |
| 第三章 基于芳烯丙二腈的IM系列传感器的合成及性能研究 | 第38-55页 |
| 3.1 前言 | 第38页 |
| 3.2 IM系列ICT传感器的设计 | 第38-39页 |
| 3.3 IM系列ICT传感器的合成 | 第39-41页 |
| 3.3.1 合成工艺路线设计 | 第39-40页 |
| 3.3.2 中间体及目标化合物的合成 | 第40-41页 |
| 3.4 IM2的光谱性质 | 第41-44页 |
| 3.4.1 IM2的紫外吸收光谱 | 第41-42页 |
| 3.4.2 IM2的荧光发射光谱 | 第42-43页 |
| 3.4.3 溶剂对IM2荧光发射光谱的影响 | 第43-44页 |
| 3.5 IM3的光谱性质 | 第44-46页 |
| 3.6 IM3的晶体结构 | 第46-48页 |
| 3.7 IM系列化合物ICT效应影响的分析与探讨 | 第48-54页 |
| 3.7.1 IM系列前线轨道分析 | 第48-50页 |
| 3.7.2 传感器IM2计算光谱分析 | 第50-51页 |
| 3.7.3 传感器IM3计算光谱分析 | 第51-52页 |
| 3.7.4 咪唑并[1,2-a]吡啶对IM系列传感器光谱性质影响的探讨 | 第52-54页 |
| 3.8 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 基于吡唑合成反应的联氨荧光传感器的设计合成及性能研究 | 第55-72页 |
| 4.1 前言 | 第55页 |
| 4.2 基于吡唑合成反应的联氨荧光传感器的设计 | 第55-56页 |
| 4.3 IMYO的合成 | 第56-57页 |
| 4.2.1 合成工艺路线设计 | 第56页 |
| 4.2.2 中间体及目标化合物的合成 | 第56-57页 |
| 4.4 IMYO和IMYO-N_2H_4光物理特性 | 第57-63页 |
| 4.3.1 IMYO和IMYO-N_2H_4的紫外吸收光谱 | 第57-58页 |
| 4.3.2 IMYO和IMYO-N_2H_4的荧光光谱 | 第58-59页 |
| 4.3.3 IMYO对联氨识别 | 第59-60页 |
| 4.3.4 IMYO在各种溶剂中的光物理性质 | 第60-61页 |
| 4.3.5 pH对IMYO荧光光谱的影响 | 第61-62页 |
| 4.3.6 IMYO识别联氨响应时间的研究 | 第62-63页 |
| 4.5 IMYO的Job's曲线的研究 | 第63-64页 |
| 4.6 IMYO的选择性与抗干扰性 | 第64-66页 |
| 4.7 IMYO的晶体结构 | 第66-68页 |
| 4.8 传感器IMYO的理论计算与探测机理 | 第68-71页 |
| 4.9 本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 基于马来酰亚胺的荧光传感器的设计合成及性能研究 | 第72-84页 |
| 5.1 前言 | 第72页 |
| 5.2 传感器IMPD分子设计 | 第72页 |
| 5.3 IMPD的合成 | 第72-74页 |
| 5.3.1 合成工艺路线设计 | 第72-73页 |
| 5.3.2 中间体及目标化合物合成 | 第73-74页 |
| 5.4 IMPD光物理性质 | 第74-78页 |
| 5.4.1 IMPD及IMPD-NH_2紫外吸收光谱 | 第74页 |
| 5.4.2 IMPD及IMPD-NH_2荧光光谱 | 第74-75页 |
| 5.4.3 IMPD在各种溶剂中的光物理性质 | 第75-77页 |
| 5.4.4 p H对IMPD荧光光谱的影响 | 第77页 |
| 5.4.5 IMPD识别联氨响应时间的研究 | 第77-78页 |
| 5.5 IMPD的Job's曲线的研究 | 第78-79页 |
| 5.6 IMPD的选择性和抗干扰性 | 第79-82页 |
| 5.7 传感器IMPD的理论计算与探测机理 | 第82-83页 |
| 5.8 本章小结 | 第83-84页 |
| 第六章 基于氟离子诱导环合传感器的设计合成及性能研究 | 第84-96页 |
| 6.1 前言 | 第84页 |
| 6.2 传感器IDS分子设计 | 第84-85页 |
| 6.3 IDS的合成 | 第85-86页 |
| 6.3.1 合成工艺路线设计 | 第85页 |
| 6.3.2 中间体及目标化合物合成 | 第85-86页 |
| 6.4 IDS的光物理性质 | 第86-90页 |
| 6.4.1 IDS与NaF反应前后的紫外吸收光谱 | 第86-87页 |
| 6.4.2 IDS与NaF反应前后的荧光光谱 | 第87页 |
| 6.4.3 溶剂对IDS传感器光谱性质的影响 | 第87-88页 |
| 6.4.4 pH对IDS荧光强度的影响 | 第88-89页 |
| 6.4.5 IDS在各种溶剂中的光物理性质 | 第89-90页 |
| 6.5 IDS的Job’s曲线的研究 | 第90-91页 |
| 6.6 IDS的选择性和抗干扰性 | 第91-93页 |
| 6.7 传感器IDS的理论计算与探测机理的研究 | 第93-94页 |
| 6.8 材料功能化 | 第94-95页 |
| 6.9 本章小结 | 第95-96页 |
| 第七章 结论 | 第96-100页 |
| 7.1 主要结论 | 第96-98页 |
| 7.2 主要创新点 | 第98-99页 |
| 7.3 展望 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-109页 |
| 附录 A 攻读学位期间发表的论文及其它研究成果 | 第109-110页 |
| 附录 B 部分化合物图谱 | 第110-124页 |
| 附录 C 分子基态结构数据 | 第124-131页 |
| 附录 D 插图目录 | 第131-137页 |
| 附录 E 表格目录 | 第137-138页 |
| 致谢 | 第138-139页 |
