| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·节能镀膜玻璃概述 | 第13-19页 |
| ·镀膜玻璃节能原理 | 第13-17页 |
| ·节能玻璃研究现状概述 | 第17-19页 |
| ·镀膜玻璃的制备技术简介 | 第19-22页 |
| ·溅射法(Sputtering) | 第19页 |
| ·真空蒸发镀膜法(Vacuum Evaporation) | 第19-20页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第20页 |
| ·喷涂镀膜法(Spray Coating) | 第20-21页 |
| ·电浮法镀膜(Electro Float) | 第21页 |
| ·化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition) | 第21-22页 |
| ·TiN薄膜的结构和性能 | 第22-27页 |
| ·TiN的晶体结构 | 第22-24页 |
| ·TiN的力学性能和电学性能 | 第24页 |
| ·TiN薄膜的光学性能 | 第24页 |
| ·非化学计量TiN薄膜 | 第24-26页 |
| ·TiN薄膜节能机理和研究现状 | 第26-27页 |
| ·课题提出 | 第27-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-39页 |
| ·实验装置和实验步骤 | 第29-35页 |
| ·实验装置 | 第29-34页 |
| ·常压化学沉积法的基本原理 | 第29-31页 |
| ·实验设备及原料 | 第31-34页 |
| ·实验步骤 | 第34-35页 |
| ·基片预处理 | 第34页 |
| ·气相沉积步骤 | 第34-35页 |
| ·样品的系列沉积参数 | 第35页 |
| ·样品的测试与分析手段 | 第35-39页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第35-36页 |
| ·场发射扫描电镜(FESEM) | 第36-37页 |
| ·X射线能量散射谱(EDX) | 第37页 |
| ·四探针电阻测试仪 | 第37页 |
| ·UV/Vis分光光度计 | 第37-38页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第38-39页 |
| 第三章 制备参数对薄膜组分及微观结构和光电性能的影响 | 第39-58页 |
| ·沉积温度对薄膜微观结构和节能性能的影响 | 第39-44页 |
| ·沉积温度对氮化钛组分和微观结构的影响 | 第39-41页 |
| ·沉积温度对薄膜导电性能的影响 | 第41-42页 |
| ·沉积温度对薄膜光学性能影响 | 第42-44页 |
| ·反应物流量对薄膜结构和节能性能的影响 | 第44-49页 |
| ·反应物流量对TiN薄膜组分和结构的影响 | 第44-47页 |
| ·反应物流量对TiN薄膜导电性能的影响 | 第47-48页 |
| ·反应物流量对TiN薄膜光学性能的影响 | 第48-49页 |
| ·沉积时间对TiN薄膜结构和性能的影响 | 第49-55页 |
| ·不同沉积时间制备TiN薄膜 | 第49-50页 |
| ·不同沉积时间TiN薄膜的微观结构 | 第50-52页 |
| ·不同沉积时间TiN薄膜的电学性能 | 第52-53页 |
| ·不同沉积时间TiN薄膜的光学性能 | 第53-55页 |
| ·小结 | 第55-58页 |
| 第四章 钒掺杂氮化钛镀膜玻璃研究 | 第58-71页 |
| ·钒掺杂的理论研究和调查 | 第58-59页 |
| ·V掺杂TiN薄膜成分研究 | 第59-60页 |
| ·掺杂对薄膜微观结构的影响 | 第60-61页 |
| ·V掺杂TiN机理研究 | 第61-66页 |
| ·XRD结果与掺杂机理 | 第61-63页 |
| ·沉积温度与掺杂机理验证 | 第63-64页 |
| ·XPS分析验证掺杂机理 | 第64-66页 |
| ·掺杂薄膜导电性能研究 | 第66页 |
| ·V掺杂对TiN薄膜光学性能的影响 | 第66-69页 |
| ·小结 | 第69-71页 |
| 第五章 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 附录1.攻读硕士学位期间发表论文与专利: | 第78页 |
