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基于表面等离激元的硅基微结构材料红外光学特性研究

摘要第5-7页
abstract第7-9页
第1章 绪论第13-27页
    1.1 课题背景及研究意义第13-15页
    1.2 半导体材料的光吸收原理第15-17页
    1.3 等离激元学简介第17-19页
    1.4 表面等离激元实现硅基材料红外吸收的机理第19-21页
    1.5 基于表面等离激元的硅基红外材料国内外发展现状第21-25页
    1.6 本章小结第25-27页
第2章 微结构波导中的表面等离激元第27-43页
    2.1 表面等离激元的数学描述第27-35页
        2.1.1 金属的电磁特性第27-29页
        2.1.2 表面等离极化激元的色散关系第29-35页
    2.2 波导当中的表面等离极化激元第35-38页
        2.2.1 三层波导中的色散关系第35-37页
        2.2.2 能量约束和模式长度第37-38页
    2.3 表面等离极化激元的激发第38-41页
        2.3.1 棱镜耦合第38-39页
        2.3.2 衍射光栅耦合第39-40页
        2.3.3 其他激发方式第40-41页
    2.4 本章小结第41-43页
第3章 线性可调谐硅基结构红外光学特性研究第43-67页
    3.1 法布里-珀罗谐振腔的选频特性第43-53页
        3.1.1 谐振条件第43-47页
        3.1.2 多模谐振的频率可调谐性第47-51页
        3.1.3 基于斜入射光源的附加模式第51-53页
    3.2 谐振腔中的附加相移第53-58页
        3.2.1 三层对称波导中的色散方程第53-54页
        3.2.2 附加相移的线性拟合第54-56页
        3.2.3 附加相移的二次拟合第56-58页
    3.3 实验参量控制与误差分析第58-66页
        3.3.1 样品的制备过程第58-60页
        3.3.2 多层膜结构相关参量分析第60-64页
        3.3.3 多层光栅的陡度误差分析第64-66页
    3.4 本章小结第66-67页
第4章 低损耗复合硅基结构红外光学特性研究第67-103页
    4.1 等离激元结构中的损耗第67-71页
        4.1.1 损耗与品质因子第67-68页
        4.1.2 损耗的结构依赖性第68-71页
    4.2 模式耦合与损耗抑制第71-88页
        4.2.1 基于腔效应的杂化模式第71-76页
        4.2.2 复合结构的整体损耗评价第76-82页
        4.2.3 弯曲损耗第82-84页
        4.2.4 能量分数与有效模式面积第84-86页
        4.2.5 各损耗之间的关系讨论第86-88页
    4.3 损耗抑制与光场调控第88-101页
        4.3.1 损耗特性和近场增强的关系第88-91页
        4.3.2 品质因子的计算第91-93页
        4.3.3 准静态极限下的场增强第93-99页
        4.3.4 模式耦合抑制损耗的本质第99-101页
    4.4 本章小结第101-103页
第5章 偏振不敏感硅基结构红外光学特性研究第103-125页
    5.1 金属纳米天线阵列结构第103-109页
        5.1.1 多模谐振及其吸收谱第103-106页
        5.1.2 等效界面对附加相移的影响第106-107页
        5.1.3 热电子效率理论分析第107-109页
    5.2 金属纳米深孔阵列结构第109-117页
        5.2.1 宽带的吸收增强效果第109-113页
        5.2.2 基于不对称三层波导的腔效应第113-117页
    5.3 金属纳米颗粒结构第117-123页
        5.3.1 局域表面等离激元的数学描述第117-119页
        5.3.2 金属纳米颗粒的形成及可控性研究第119-121页
        5.3.3 结构的随机性与超宽带吸收增强效果第121-123页
    5.4 本章小结第123-125页
第6章 全文总结和未来展望第125-127页
    6.1 全文总结第125-126页
    6.2 未来研究方向及展望第126-127页
参考文献第127-135页
致谢第135-137页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果第137-138页

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