| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章:绪论 | 第7-18页 |
| ·引言 | 第7-9页 |
| ·GMR效应简介 | 第9-14页 |
| ·GMR效应的发现过程 | 第9-11页 |
| ·GMR效应的物理机制 | 第11-14页 |
| ·不同种类的GMR结构 | 第14-18页 |
| ·多层膜(Multilayer)GMR结构 | 第14-16页 |
| ·颗粒膜型(Granular Film)GMR结构 | 第16-18页 |
| 第二章:微加工制作SV-GMR传感器过程 | 第18-29页 |
| ·SV-GMR传感器件制作与微加工 | 第19-21页 |
| ·微电子加工工艺 | 第21-29页 |
| ·微加工原理与发展 | 第21-22页 |
| ·多层膜的生长 | 第22-23页 |
| ·掩模版制版 | 第23-24页 |
| ·光刻过程原理介绍 | 第24-26页 |
| ·刻蚀过程介绍 | 第26-29页 |
| 第三章:紫外曝光光刻实验 | 第29-39页 |
| ·晶片的清洗 | 第29-32页 |
| ·晶片表面清洗的重要性 | 第29-30页 |
| ·微粒吸附状态及一般的去除方法 | 第30-31页 |
| ·本实验中使用的清洗工艺 | 第31-32页 |
| ·光刻胶匀胶过程 | 第32-35页 |
| ·紫外敏感光刻胶 | 第32-33页 |
| ·确定匀胶参数 | 第33-35页 |
| ·紫外曝光 | 第35-38页 |
| ·紫外光源与均匀照明物镜 | 第35-36页 |
| ·精密定位工件台结构 | 第36-37页 |
| ·探索曝光能量 | 第37-38页 |
| ·显影过程及其参数 | 第38-39页 |
| 第四章:离子刻蚀(IBE)实验 | 第39-46页 |
| ·离子刻蚀机的构成 | 第39-42页 |
| ·实验确定离子刻蚀参数 | 第42-44页 |
| ·后段清洗、检查、划片及封装 | 第44-46页 |
| 第五章:芯片性能测试及其应用 | 第46-52页 |
| ·测试GMR传感器芯片 | 第46-48页 |
| ·磁旋转编码器 | 第48-50页 |
| ·线性距离测量 | 第50-51页 |
| ·进一步的应用与研究展望 | 第51-52页 |
| 总结 | 第52-53页 |
| 引用文献 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第55页 |