| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 概述 | 第11页 |
| 1.2 SnO_2研究历史简介 | 第11-12页 |
| 1.3 SnO_2薄膜的性质 | 第12-18页 |
| 1.3.1 SnO_2的基本物理性质 | 第12-14页 |
| 1.3.2 SnO_2晶体的结构 | 第14-15页 |
| 1.3.3 光学性质 | 第15-16页 |
| 1.3.4 电学性质 | 第16-18页 |
| 1.4 SnO_2薄膜的制备方法 | 第18-22页 |
| 1.4.1 溶胶凝胶法 | 第18-19页 |
| 1.4.2 物理气相沉积 | 第19-21页 |
| 1.4.3 化学气相沉积 | 第21-22页 |
| 1.5 SnO_2薄膜的应用 | 第22-24页 |
| 1.5.1 SnO_2在透明导电薄膜中的应用 | 第22-23页 |
| 1.5.2 SnO_2在气敏材料中的应用 | 第23-24页 |
| 1.5.3 SnO_2在催化剂方面的应用 | 第24页 |
| 1.6 SnO_2薄膜的研究进展 | 第24-25页 |
| 1.7 本文的意义及研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 实验设备和测试分析方法 | 第27-31页 |
| 2.1 实验材料与实验设备 | 第27-29页 |
| 2.1.1 反应磁控溅射设备 | 第27-28页 |
| 2.1.2 快速热处理设备 | 第28-29页 |
| 2.1.3 石英管式热处理炉 | 第29页 |
| 2.2 测试分析设备 | 第29-31页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第29页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
| 2.2.3 X射线光电子能谱 | 第30页 |
| 2.2.4 光吸收谱测量仪 | 第30页 |
| 2.2.5 室温光致发光测试系统 | 第30-31页 |
| 第三章 反应磁控溅射制备SnO_2薄膜及其微观形貌与光致发光性能研究 | 第31-45页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 薄膜的制备 | 第31-32页 |
| 3.3 溅射参数对薄膜沉积速率以及表面形貌的影响 | 第32-37页 |
| 3.3.1 溅射压强对薄膜沉积速率的影响 | 第32-33页 |
| 3.3.2 O_2流速大小对薄膜沉积速率的影响 | 第33-34页 |
| 3.3.3 衬底温度对薄膜沉积速率的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.4 衬底温度对薄膜表面微观形貌的影响 | 第35-37页 |
| 3.4 退火对SnO_2薄膜的形貌与结构的影响 | 第37-40页 |
| 3.4.1 原生SnO_2薄膜与退火后SnO_2薄膜的微观形貌 | 第37-38页 |
| 3.4.2 原生SnO_2薄膜与退火后SnO_2薄膜的结构分析 | 第38-40页 |
| 3.5 退火前后薄膜的光学及光致发光性质对比 | 第40-43页 |
| 3.6 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 多孔SnO_2薄膜的形成机理及可控制备 | 第45-62页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 多孔SnO_2薄膜的制备 | 第45-46页 |
| 4.3 多孔SnO_2薄膜的微观形貌 | 第46-47页 |
| 4.4 SnO_2多孔薄膜的形成机理推测 | 第47-48页 |
| 4.5 多孔SnO_2薄膜反应机理验证 | 第48-60页 |
| 4.5.1 XRD结构分析 | 第49-50页 |
| 4.5.2 O_2气氛RTP工艺 | 第50-51页 |
| 4.5.3 SEM微观形貌分析 | 第51页 |
| 4.5.4 RTP制备工艺的影响 | 第51-54页 |
| 4.5.5 多孔SnO_2薄膜的控制制备 | 第54-55页 |
| 4.5.6 Sn-SnO_2复合薄膜的控制制备 | 第55-57页 |
| 4.5.7 退火对多孔SnO_2薄膜形貌的影响 | 第57-58页 |
| 4.5.8 RTP处理温度对Sn-SnO_2复合薄膜形貌的影响 | 第58页 |
| 4.5.9 特殊Sn球形貌分析 | 第58-59页 |
| 4.5.10 纳米丝结构分析 | 第59-60页 |
| 4.6 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 硕士期间发表文章 | 第75页 |
