Na掺杂p型ZnO：Na_x薄膜的制备与性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-27页 |
| ·ZnO的基本性质及应用 | 第11-13页 |
| ·ZnO的结构形态 | 第13-16页 |
| ·ZnO体单晶 | 第13-14页 |
| ·ZnO薄膜 | 第14-15页 |
| ·ZnO纳米结构 | 第15-16页 |
| ·ZnO的光电性能 | 第16-17页 |
| ·电学特性 | 第16页 |
| ·光学特性 | 第16-17页 |
| ·ZnO的本征缺陷与n型掺杂 | 第17-20页 |
| ·ZnO的本征缺陷 | 第17-19页 |
| ·ZnO的非故意掺杂(H) | 第19页 |
| ·ZnO的n型掺杂 | 第19-20页 |
| ·ZnO的p型掺杂 | 第20-25页 |
| ·V族元素掺杂 | 第21-23页 |
| ·I族元素掺杂 | 第23页 |
| ·H钝化技术 | 第23-24页 |
| ·共掺技术 | 第24-25页 |
| ·立题依据及研究内容 | 第25-27页 |
| 第三章 样品制备及性能表征 | 第27-37页 |
| ·激光脉冲沉积法(PLD) | 第27-28页 |
| ·PLD基本原理 | 第27-28页 |
| ·PLD制备系统 | 第28页 |
| ·Na掺杂ZnO制备过程 | 第28-29页 |
| ·靶材制备 | 第28-29页 |
| ·衬底清洗 | 第29页 |
| ·薄膜制备工艺 | 第29页 |
| ·工艺参数的影响分析 | 第29-30页 |
| ·靶材与衬底相对位置 | 第29-30页 |
| ·溅射功率 | 第30页 |
| ·性能表征 | 第30-31页 |
| ·表征手段分析 | 第31-37页 |
| ·霍尔效应测试 | 第31-33页 |
| ·PL谱 | 第33-35页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第35-36页 |
| ·PN结特性 | 第36-37页 |
| 第四章 Na掺杂ZnO薄膜的制备和结构特性 | 第37-45页 |
| ·ZnO:Na_x薄膜的制备 | 第37页 |
| ·ZnO:Na_x薄膜的结构与形貌分析 | 第37-40页 |
| ·ZnO:Na_x薄膜的元素分析 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 Na掺杂ZnO薄膜的光电性能 | 第45-59页 |
| ·Na掺杂含量对电学性能的影响 | 第45-49页 |
| ·Na掺杂含量对光学性能的影响 | 第49-58页 |
| ·透射谱和PL分析 | 第49-52页 |
| ·不同生长温度的PL谱分析 | 第52-53页 |
| ·变温PL分析 | 第53-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 总结与展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 个人简历 | 第70-71页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第71页 |
