稀土掺杂硫系薄膜的制备及其发光性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| §1.1 光电子技术的发展 | 第8-9页 |
| §1.2 硫系薄膜的研究进展 | 第9-13页 |
| §1.2.1 硫系玻璃概述 | 第9-11页 |
| §1.2.2 硫系薄膜研究 | 第11-13页 |
| §1.3 稀土掺杂发光材料的发展现状 | 第13-19页 |
| §1.3.1 稀土离子的能级结构 | 第13-16页 |
| §1.3.2 稀土掺杂硫系材料的研究现状 | 第16-19页 |
| §1.4 本文主要研究内容和章节安排 | 第19-20页 |
| 第二章 稀土掺杂硫系薄膜的制备和结构表征 | 第20-32页 |
| §2.1 硫系薄膜制备工艺概述 | 第20-22页 |
| §2.2 硫系薄膜的脉冲激光沉积平台制备概述 | 第22-24页 |
| §2.3 系列薄膜样品系列的制备 | 第24-26页 |
| §2.4 硫系薄膜样品的结构表征 | 第26-31页 |
| §2.4.1 X射线衍射谱仪(XRD) | 第26-27页 |
| §2.4.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
| §2.4.3 原子力显微镜(AFM) | 第28页 |
| §2.4.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第28-29页 |
| §2.4.5 拉曼散射光谱仪(Raman) | 第29-31页 |
| §2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 稀土掺杂硫系薄膜的光学性质研究 | 第32-49页 |
| §3.1 透射光谱结果与分析 | 第32-35页 |
| §3.2 光致发光性质研究 | 第35-44页 |
| §3.2.1 光致发光谱(PL) | 第35-39页 |
| §3.2.2 发光特性讨论 | 第39-44页 |
| §3.3 表面等离激元光致发光的影响 | 第44-48页 |
| §3.3.1 表面等离激元简介 | 第44-46页 |
| §3.3.2 实验设计及结果分析 | 第46-48页 |
| §3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 总结与展望 | 第49-51页 |
| §4.1 全文总结 | 第49-50页 |
| §4.2 研究展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读硕士期间完成的论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
