| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 课题背景 | 第11-13页 |
| 1.2 光刻设备散热研究概述 | 第13-17页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第17-21页 |
| 1.3.1 等离子体光刻技术研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3.2 光刻设备散热研究现状 | 第19-20页 |
| 1.3.3 仿生流道研究现状 | 第20-21页 |
| 1.4 论文研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 光刻设备散热研究理论基础及分析 | 第22-28页 |
| 2.1 散热基本理论 | 第22-26页 |
| 2.1.1 传热方式 | 第22-23页 |
| 2.1.2 流体动力学基本理论 | 第23-24页 |
| 2.1.3 常用散热方式 | 第24-26页 |
| 2.2 SP光刻直写设备中存在的散热问题 | 第26页 |
| 2.3 本章小结 | 第26-28页 |
| 第三章 薄膜结构在自然对流下的散热特性研究 | 第28-47页 |
| 3.1 金属-介质多层膜散热特性分析 | 第28-38页 |
| 3.1.1 金属-介质多层膜建模 | 第29-31页 |
| 3.1.2 金属-介质多层膜发热量分布计算 | 第31-32页 |
| 3.1.3 边界条件设置及网格划分 | 第32-33页 |
| 3.1.4 金属-介质多层膜散热特性分析 | 第33-36页 |
| 3.1.5 光照功率密度对金属-介质多层膜散热特性的影响 | 第36-38页 |
| 3.2 金属-介质多层膜散热特性中的尺寸效应研究 | 第38-42页 |
| 3.2.1 三维尺寸等比例放大情形下的金属-介质多层膜散热特性 | 第38-40页 |
| 3.2.2 二维尺寸放大情形下的金属-介质多层膜散热特性 | 第40-42页 |
| 3.3 单层铬膜结构散热特性分析 | 第42-46页 |
| 3.3.1 模型建模及边界条件设定 | 第43页 |
| 3.3.2 铬膜模型温度场仿真分析 | 第43-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 循环水冷装置热交换器的流道结构设计和温度场分析 | 第47-70页 |
| 4.1 循环水冷装置的总体要求 | 第47页 |
| 4.2 循环水冷装置总体设计 | 第47-50页 |
| 4.2.1 制冷方式选择 | 第48-49页 |
| 4.2.2 半导体制冷片选型 | 第49-50页 |
| 4.2.3 制冷模块总体设计 | 第50页 |
| 4.3 制冷模块换热器的流道结构设计和温度场仿真分析 | 第50-68页 |
| 4.3.1 采用两种常见流道的换热器结构设计及流场-温度场仿真分析 | 第51-53页 |
| 4.3.2 分叉流道流动及换热性能研究 | 第53-59页 |
| 4.3.3 采用仿生流道的换热器结构设计和流场-温度场仿真分析 | 第59-64页 |
| 4.3.4 材料及边界条件对制冷效果的影响 | 第64-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 5.1 总结 | 第70-71页 |
| 5.2 展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第77-78页 |
