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基于纳米管的微纳流控芯片研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-21页
    1.1 微纳流控技术第11-12页
    1.2 微纳流控芯片加工第12页
    1.3 微纳流控芯片的发展及应用第12-15页
    1.4 纳米管材料在微纳流控芯片中的应用第15-19页
        1.4.1 碳纳米管性质及应用第15-18页
        1.4.2 氮化硼纳米管性质及应用第18-19页
    1.5 本文主要研究内容第19-21页
第2章 SU-8光刻加工工艺研究第21-31页
    2.1 SU-8光刻胶性质第21-22页
    2.2 SU-8光刻加工微流控芯片第22-24页
        2.2.1 仪器装置第22页
        2.2.2 实验材料与试剂第22-23页
        2.2.3 微流道结构加工工艺第23-24页
    2.3 结果与讨论第24-28页
        2.3.1 匀胶和前烘第24-25页
        2.3.2 曝光和中烘第25-27页
        2.3.3 显影第27-28页
    2.4 微流控芯片封装第28-30页
        2.4.1 PDMS配制第28页
        2.4.2 PDMS键合封装第28-29页
        2.4.3 键合可靠性测试第29-30页
    2.5 本章小结第30-31页
第3章 基于纳米管的微纳流控芯片制作第31-41页
    3.1 实验方案设计第31-32页
    3.2 实验材料与设备第32页
    3.3 标记基片加工第32-35页
    3.4 纳米管分散与定位第35-38页
        3.4.1 BNNTs的分散与定位第35-37页
        3.4.2 CNTs的分散与定位第37-38页
    3.5 微纳流控芯片制作第38-40页
        3.5.1 加工工艺第38-39页
        3.5.2 结果分析第39-40页
    3.6 本章小结第40-41页
第4章 微纳流控芯片电学性能测试第41-48页
    4.1 实验方案设计第41-42页
    4.2 实验设备与材料第42-43页
    4.3 微纳流控芯片离子输运特性分析第43-47页
        4.3.1 氮化硼纳米管内离子输运第43-45页
        4.3.3 碳纳米管内离子输运第45-47页
    4.4 本章小结第47-48页
第5章 总结与展望第48-51页
    5.1 总结第48-49页
    5.2 展望第49-51页
参考文献第51-57页
作者简介及科研成果第57-58页
致谢第58页

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