基于纳米管的微纳流控芯片研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 微纳流控技术 | 第11-12页 |
| 1.2 微纳流控芯片加工 | 第12页 |
| 1.3 微纳流控芯片的发展及应用 | 第12-15页 |
| 1.4 纳米管材料在微纳流控芯片中的应用 | 第15-19页 |
| 1.4.1 碳纳米管性质及应用 | 第15-18页 |
| 1.4.2 氮化硼纳米管性质及应用 | 第18-19页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 SU-8光刻加工工艺研究 | 第21-31页 |
| 2.1 SU-8光刻胶性质 | 第21-22页 |
| 2.2 SU-8光刻加工微流控芯片 | 第22-24页 |
| 2.2.1 仪器装置 | 第22页 |
| 2.2.2 实验材料与试剂 | 第22-23页 |
| 2.2.3 微流道结构加工工艺 | 第23-24页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第24-28页 |
| 2.3.1 匀胶和前烘 | 第24-25页 |
| 2.3.2 曝光和中烘 | 第25-27页 |
| 2.3.3 显影 | 第27-28页 |
| 2.4 微流控芯片封装 | 第28-30页 |
| 2.4.1 PDMS配制 | 第28页 |
| 2.4.2 PDMS键合封装 | 第28-29页 |
| 2.4.3 键合可靠性测试 | 第29-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 基于纳米管的微纳流控芯片制作 | 第31-41页 |
| 3.1 实验方案设计 | 第31-32页 |
| 3.2 实验材料与设备 | 第32页 |
| 3.3 标记基片加工 | 第32-35页 |
| 3.4 纳米管分散与定位 | 第35-38页 |
| 3.4.1 BNNTs的分散与定位 | 第35-37页 |
| 3.4.2 CNTs的分散与定位 | 第37-38页 |
| 3.5 微纳流控芯片制作 | 第38-40页 |
| 3.5.1 加工工艺 | 第38-39页 |
| 3.5.2 结果分析 | 第39-40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 微纳流控芯片电学性能测试 | 第41-48页 |
| 4.1 实验方案设计 | 第41-42页 |
| 4.2 实验设备与材料 | 第42-43页 |
| 4.3 微纳流控芯片离子输运特性分析 | 第43-47页 |
| 4.3.1 氮化硼纳米管内离子输运 | 第43-45页 |
| 4.3.3 碳纳米管内离子输运 | 第45-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第5章 总结与展望 | 第48-51页 |
| 5.1 总结 | 第48-49页 |
| 5.2 展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 作者简介及科研成果 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
