摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-14页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10页 |
1.2 国内外研究现状 | 第10-12页 |
1.3 本论文的主要内容安排 | 第12-13页 |
1.4 本章小结 | 第13-14页 |
第二章 三维严格耦合波分析(RCWA) | 第14-41页 |
2.1 三维RCWA方法中相对介电常数的傅里叶系数 | 第14-22页 |
2.1.1 三维RCWA方法简介 | 第14-15页 |
2.1.2 相对介电常数傅里叶系数的引进 | 第15-16页 |
2.1.3 规则光栅模型 | 第16-20页 |
2.1.4 圆角光栅模型 | 第20-22页 |
2.2 三维RCWA方法 | 第22-33页 |
2.2.1 平面衍射 | 第22-29页 |
2.2.2 锥角衍射 | 第29-32页 |
2.2.3 多层均匀膜衍射 | 第32-33页 |
2.3 三维RCWA方法的数值求解 | 第33-40页 |
2.3.1 半解法 | 第33-34页 |
2.3.2 对称衍射 | 第34-40页 |
2.4 本章小结 | 第40-41页 |
第三章 三维RCWA仿真的软件实现和集成 | 第41-60页 |
3.1 数学核心函数库简介 | 第41页 |
3.2 仿真软件的实现 | 第41-46页 |
3.2.1 仿真原理 | 第41-42页 |
3.2.2 仿真过程的实现 | 第42-45页 |
3.2.3 软件集成 | 第45-46页 |
3.3 数据库的应用及建库过程 | 第46-51页 |
3.3.1 OCD软件原理 | 第46-48页 |
3.3.2 建库原理 | 第48-50页 |
3.3.3 建库的实现 | 第50-51页 |
3.4 三维RCWA软件的仿真结果 | 第51-59页 |
3.5 本章小结 | 第59-60页 |
第四章 三维RCWA在集成电路检测中的应用 | 第60-66页 |
4.1 光学关键尺寸测量仪 | 第60-62页 |
4.2 浅沟槽隔离结构的三维RCWA分析 | 第62-65页 |
4.3 本章小结 | 第65-66页 |
第五章 结束语 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-70页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第70-71页 |