| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·铁电材料的研究背景 | 第12-17页 |
| ·铁电材料的发现 | 第12-13页 |
| ·氧八面体铁电材料的结构及分类 | 第13-16页 |
| ·铁电薄膜及集成铁电学 | 第16-17页 |
| ·钛酸钡的性质及研究现状 | 第17-22页 |
| ·钛酸钡的晶体结构 | 第17-21页 |
| ·钛酸钡的铁电性能及形成机制 | 第21-22页 |
| ·钛酸钡的应用及研究现状 | 第22页 |
| ·钛酸钡薄膜的主要制备方法 | 第22-28页 |
| ·溶胶—凝胶法(Sol—Gel) | 第23-25页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第25-26页 |
| ·射频磁控溅射发(RF—Magnetron—Sputtering) | 第26-27页 |
| ·有机金属化学气相沉积法(MOCVD) | 第27-28页 |
| ·研究内容及选题意义 | 第28-29页 |
| ·研究内容 | 第28页 |
| ·选题意义 | 第28-29页 |
| 第二章 掺杂BTO薄膜的Sol—Gel制备 | 第29-37页 |
| ·实验原理 | 第29-31页 |
| ·原料选择 | 第29-30页 |
| ·反应机理 | 第30-31页 |
| ·实验方案设计 | 第31-35页 |
| ·钛酸钡薄膜前驱体的制备流程 | 第31-33页 |
| ·钛酸钡薄膜前驱体的制备流程 | 第33页 |
| ·实验设计 | 第33-35页 |
| ·仪器设备与试剂 | 第35-36页 |
| ·仪器设备 | 第35页 |
| ·实验试剂 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 掺杂BTO薄膜的晶体结构及表面形貌分析 | 第37-48页 |
| ·掺杂BTO薄膜的晶格结构分析 | 第37-43页 |
| ·不同退火温度下的BTO薄膜 | 第38页 |
| ·不同衬底上掺Zn的BTO薄膜 | 第38-41页 |
| ·不同衬底上掺Mn的BTO薄膜 | 第41-42页 |
| ·共掺Zn-Mn对BTO薄膜的XRD影响 | 第42-43页 |
| ·掺杂BTO薄膜的表面形貌分析 | 第43-47页 |
| ·加水量对BTO薄膜形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·掺Zn对BTO薄膜形貌的影响 | 第44-46页 |
| ·掺Mn对BTO薄膜形貌的影响 | 第46页 |
| ·掺Zn和Mn的BTO薄膜形貌的对比分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 掺杂BTO薄膜的光学性质研究 | 第48-53页 |
| ·掺杂BTO薄膜的椭偏光谱研究 | 第48-51页 |
| ·加水量对BTO薄膜光学常数的影响 | 第48页 |
| ·掺Zn量对BTO薄膜光学常数的影响 | 第48-50页 |
| ·掺Mn量对BTO薄膜光学常数的影响 | 第50-51页 |
| ·掺杂BTO薄膜的拉曼光谱研究 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 共掺金属离子对BTO电学性能的影响 | 第53-58页 |
| ·钛酸钡与铁电存储器 | 第53-55页 |
| ·掺Zn对BTO薄膜铁电性能的影响 | 第55-56页 |
| ·掺Mn对BTO薄膜铁电性能的影响 | 第56页 |
| ·共掺Zn-Mn对BTO薄膜铁电性能的影响 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第六章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读论文期间发表的学术论文目录 | 第64页 |