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电化学刻蚀制备仿生复眼结构

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 绪论第8-14页
    1.1 仿生复眼结构的研究目的与意义第8-9页
    1.2 复眼概述第9页
    1.3 仿生复眼结构的国内外研究现状第9-12页
    1.4 主要研究内容第12-14页
第二章 外界干扰对InP多孔层的影响第14-21页
    2.1 实验部分第14-15页
        2.1.1 实验材料及设备第14页
        2.1.2 实验过程第14-15页
    2.2 实验结果第15-18页
    2.3 外界干扰对InP多孔层的影响第18-19页
    2.4 本章小结第19-21页
第三章 电子束曝光技术辅助电化学刻蚀技术制备仿生复眼结构第21-35页
    3.1 电子束曝光的原理第21页
    3.2 实验部分第21-23页
        3.2.1 实验材料及仪器设备第21页
        3.2.2 基于InP的仿生复眼结构的制备第21-23页
    3.3 实验结果与分析第23-33页
        3.3.1 电子束曝光技术所得孔阵的形貌表征第23-24页
        3.3.2 电化学刻蚀所得半球形径向多孔结构的形貌表征第24-27页
            3.3.2.1 不同间距不同尺寸的半球形多孔结构第25-27页
        3.3.3 基于InP的仿生复眼结构的形貌表征第27-28页
        3.3.4 基于InP的仿生复眼结构的光学特性分析第28-30页
        3.3.5 刻蚀时间对InP半球形径向多孔结构的影响第30-32页
        3.3.6 刻蚀电流密度对InP半球形径向多孔结构的影响第32-33页
    3.4 本章小结第33-35页
第四章 激光干涉技术辅助电化学刻蚀技术制备仿生复眼结构第35-42页
    4.1 激光干涉的原理第35-36页
    4.2 实验部分第36-38页
        4.2.1 实验材料及设备第36页
        4.2.2 双光束激光干涉系统的搭建第36-37页
        4.2.3 仿生复眼结构的制备第37-38页
    4.3 实验结果与分析第38-41页
        4.3.1 基于InP的仿生复眼结构的形貌表征第38-39页
        4.3.2 基于InP的仿生复眼结构的光学特性分析第39-41页
        4.3.3 仿生复眼结构的转移第41页
    4.4 本章小结第41-42页
第五章 总结与展望第42-44页
    5.1 论文工作总结第42-43页
    5.2 工作展望第43-44页
致谢第44-45页
参考文献第45-48页
附录第48页

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