| 提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·研究背景和意义 | 第7-8页 |
| ·国内外研究现状 | 第8-11页 |
| 第二章 双轴应变硅技术原理 | 第11-19页 |
| ·应变硅技术的研究 | 第11-14页 |
| ·应变硅研究意义 | 第11-12页 |
| ·单轴应变硅技术 | 第12-13页 |
| ·双轴应变硅技术 | 第13-14页 |
| ·双轴应变硅结构 | 第14-17页 |
| ·双轴应变硅晶格结构 | 第15-16页 |
| ·双轴应变硅能带结构 | 第16-17页 |
| ·双轴应变硅载流子迁移率的增强机理 | 第17-19页 |
| 第三章 基于飞秒激光的二次谐波产生(SHG)技术 | 第19-30页 |
| ·飞秒激光的发展与应用 | 第19-20页 |
| ·二次谐波产生(SHG)方法概述 | 第20-21页 |
| ·表面二次谐波产生的理论 | 第21-30页 |
| ·非线性二阶电极化率张量 | 第23-26页 |
| ·推导非线性二阶电极化强度 | 第26-28页 |
| ·非线性二阶极化强度中的二次谐波项 | 第28-30页 |
| 第四章 SI 表面处二次谐波产生实验研究 | 第30-44页 |
| ·SI 表面二次谐波产生模型 | 第30-32页 |
| ·SI 表面处二次谐波产生对各向异性研究的实验 | 第32-43页 |
| ·实验装置 | 第32-35页 |
| ·验结果与问题分析 | 第35-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 双轴应力诱导的SI 表面二次谐波产生实验研究 | 第44-58页 |
| ·应力应变及其测量方法 | 第44-46页 |
| ·可施加双轴应力装置的设计 | 第46-50页 |
| ·双轴应力诱导SI 表面二次谐波产生实验 | 第50-57页 |
| ·双轴应力器件应变定标实验 | 第50-52页 |
| ·双轴伸张应变诱导Si 表面二次谐波产生实验 | 第52-54页 |
| ·双轴压缩应变诱导Si 表面二次谐波产生实验及其表面应变定标 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第六章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 摘要 | 第64-67页 |
| ABSTRACT | 第67-68页 |